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J-GLOBAL ID：200903000778793496
磁気記録媒体の製造方法
Inventor：
,
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：
松山 圭佑
, 高矢 諭
, 牧野 剛博
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003367542
Publication number (International publication number)：2005135455
Application date： Oct. 28, 2003
Publication date： May. 26, 2005
Summary：
【課題】表面が充分に平坦で、且つ、記録・再生精度が良い凹凸パターンの記録層を有する磁気記録媒体を効率良く確実に製造することができる磁気記録媒体の製造方法を提供する。【解決手段】凹凸パターンの記録層32上にストップ膜42を形成するストップ膜形成工程と、ストップ膜42上に下側非磁性膜36Aを形成する下側非磁性膜形成工程と、下側非磁性膜36A上に上側非磁性膜36Bを形成する上側非磁性膜形成工程と、を含み、少なくとも上側非磁性膜形成工程において被加工体10にバイアスパワーを印加し、且つ、下側非磁性膜形成工程においてバイアスパワーを印加しないで、或いは上側非磁性膜形成工程よりもバイアスパワーを小さく抑制して凹凸パターンの凹部34に非磁性材36を充填するようにした。【選択図】図9
Claim (excerpt)：
基板上に記録層が所定の凹凸パターンで形成され、該凹凸パターンの凹部が非磁性材で充填された磁気記録媒体の製造方法であって、
前記凹凸パターン上に下側非磁性膜を形成する下側非磁性膜形成工程と、前記下側非磁性膜上に上側非磁性膜を形成する上側非磁性膜形成工程と、を含み、少なくとも該上側非磁性膜形成工程において前記基板にバイアスパワーを印加し、且つ、前記下側非磁性膜形成工程において前記上側非磁性膜形成工程よりもバイアスパワーを小さく抑制して前記凹凸パターンの凹部に前記非磁性材を充填するようにしたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
IPC (2)：
FI (2)：
F-Term (9)：
5D112AA05
, 5D112AA18
, 5D112AA20
, 5D112AA24
, 5D112FA04
, 5D112FB04
, 5D112FB26
, 5D112GA02
, 5D112GA20
Cited by applicant (3)
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磁気ディスク、磁気ディスクの製造方法、及び磁気記録装置
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平8-191846
Applicant：株式会社東芝
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磁性材料のエッチング方法及びプラズマエッチング装置
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平11-130329
Applicant：科学技術振興事業団, アネルバ株式会社, 科学技術庁金属材料技術研究所長
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半導体装置の製造方法
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平11-118657
Applicant：日本電気株式会社
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