Pat
J-GLOBAL ID:200903000899538531
柱状ナノ構造体(ナノロッド)を利用し発光ダイオード(LED)の発光効率を引き上げる方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
▲吉▼川 俊雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007289058
Publication number (International publication number):2008306156
Application date: Nov. 06, 2007
Publication date: Dec. 18, 2008
Summary:
【課題】光電気化学(PHOTOELECTROCHEMICAL ,PEC)反応を利用して酸化反応を起こし、柱状ナノ構造体を有する発光ダイオード(LED)を形成する。【解決手段】発光ダイオード(LED)の表面に薄膜金属層をめっきし、それを熱処理した後で金属の顆粒でマスクを形成し、マスクで保護されていない部分にエッチング処理を施し、金属顆粒マスクを取り外して柱状ナノ構造体(ナノロッド)を形成し、続いて、柱状ナノ構造体(ナノロッド)が形成された発光ダイオード(LED)を光電気化学(PHOTOELECTROCHEMICAL ,PEC)反応を利用、それに一定の電流を流し、さらに水銀灯の光を照射し、P型半導体材料を除き、材料の表面積に酸化層106を形成し、最後に再度金属層107をめっきし、P型半導体材料を導通して、柱状ナノ構造体(ナノロッド)を有する発光ダイオード(LED)を形成する。【選択図】図1F
Claim (excerpt):
サファイア基板と、
サファイア基板の上にあるP型GaN(窒化ガリウム)層と、
P型GaN(窒化ガリウム)層の上にある多重量子井戸と、
多重量子井戸の上にあるN型GaN(窒化ガリウム)層を備え、
N型GaN(窒化ガリウム)層の表面に金属薄層を形成し、
それに素早く熱処理を施すことで複数の金属顆粒を形成し、
N型GaN(窒化ガリウム)層と前記多重量子井戸にエッチングを施し、
複数の前記金属顆粒をマスクとし、
複数の柱状ナノ構造体(ナノロッド)を形成し、
複数の前記柱状ナノ構造体(ナノロッド)には複数の前記金属顆粒が含まれ、
前記N型GaN(窒化ガリウム)層と前記多重量子井戸により、
残留した複数の前記金属顆粒を取り除き、
前記柱状ナノ構造体(ナノロッド)の一部を取り除いたものを電極とし、
光電気化学(PHOTOELECTROCHEMICAL ,PEC)反応を利用した酸化工程では、
酸化層で複数の前記柱状ナノ構造体(ナノロッド)を被覆し、
前記酸化層に金属層をめっきし、
前記電極部分をP型GaN(窒化ガリウム)層と連結させオーム接触を形成し、
これにより柱状ナノ構造体(ナノロッド)を有する発光ダイオード(LED)を形成する
ことを特徴とする柱状ナノ構造体(ナノロッド)を利用し発光ダイオード(LED)の発光効率を引き上げる方法。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (11):
5F041AA03
, 5F041AA31
, 5F041CA04
, 5F041CA05
, 5F041CA40
, 5F041CA73
, 5F041CA74
, 5F041CA77
, 5F041CA93
, 5F041CB11
, 5F041CB36
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
-
III族窒化物量子ドットおよびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-292052
Applicant:財団法人名古屋産業科学研究所
-
半導体デバイスアレイ及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-363134
Applicant:キヤノン株式会社
-
半導体発光素子製造方法および半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-251468
Applicant:学校法人名城大学
-
光起電力素子及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-248944
Applicant:キヤノン株式会社
-
ナノワイヤ製造方法及び電子装置
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2003-581245
Applicant:コーニンクレッカフィリップスエレクトロニクスエヌヴィ
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Cited by examiner (5)
-
III族窒化物量子ドットおよびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-292052
Applicant:財団法人名古屋産業科学研究所
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半導体デバイスアレイ及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-363134
Applicant:キヤノン株式会社
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半導体発光素子製造方法および半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-251468
Applicant:学校法人名城大学
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Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-248944
Applicant:キヤノン株式会社
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ナノワイヤ製造方法及び電子装置
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2003-581245
Applicant:コーニンクレッカフィリップスエレクトロニクスエヌヴィ
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