Pat
J-GLOBAL ID：200903001494920397

リソグラフィ装置およびデバイス製造方法

Inventor：
ヤン ヤープ クイト

About ヤン ヤープ クイト


Applicant, Patent owner：
エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ

About エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ


Agent (4)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  吉田 裕 ,  森 徹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005364357
Publication number (International publication number)：2006179912
Application date： Dec. 19, 2005
Publication date： Jul. 06, 2006
Summary：
【課題】リソグラフィ装置において、連続する多重露光ジョブのストリーミングに適した交換可能オブジェクト取扱装置を提供すること。【解決手段】本発明によれば、放射線ビームを条件付ける照明システムと、放射線ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射線ビームを形成することができるパターン付与デバイスを支持するパターン付与デバイス・サポートと、基板を保持する基板サポートと、パターン付き放射線ビームを基板のターゲット部分に投射する投影システムと、交換可能オブジェクト装荷ステーションおよびサポートとの間で交換可能オブジェクトを交換するための交換可能オブジェクト取扱装置とを有するリソグラフィ装置が提供される。交換可能オブジェクト取扱装置は3つ以上のエンド・エフェクタを備え、各エフェクタは上記サポートのうちの1つと交換可能オブジェクトを交換することができる。【選択図】図2
Claim (excerpt)：
放射線ビームを条件付けるように構成された照明システムと、 パターン付与デバイスを支持するように構築されたパターン付与デバイス・サポートであって、該パターン付与デバイスは前記放射線ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射線ビームを形成することができるパターン付与デバイス・サポートと、 基板を保持するように構築された基板サポートと、 前記パターン付き放射線ビームを前記基板のターゲット部分に投射するように構成された投影システムと、 交換可能オブジェクト装荷ステーションと、前記サポートのうちの1つとの間で交換可能オブジェクトを交換するように構成された交換可能オブジェクト取扱装置であって、3つ以上のエンド・エフェクタを有し、該エンド・エフェクタのそれぞれが、前記サポートのうちの前記1つとの間で交換可能オブジェクトを交換することができる交換可能オブジェクト取扱装置と を有するリソグラフィ装置。
IPC (2)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20
FI (3)：
H01L21/30 515F ,  H01L21/30 514A ,  G03F7/20 521
F-Term (6)：
5F046AA13 ,  5F046BA03 ,  5F046CC02 ,  5F046CC09 ,  5F046CD02 ,  5F046CD04
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
Show all
Cited by examiner (4)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM