フォトレジスト膜除去方法および装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：青山葆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998323503
Publication number (International publication number)：2000150349
Application date： Nov. 13, 1998
Publication date： May. 30, 2000
Summary：

【要約】【課題】換気設備のためのコストや原料のコストを低減でき、環境汚染も防止できるフォトレジスト膜の除去方法およびそのための装置の提供。【解決手段】密閉された系内において、基板表面上に塗布されたフォトレジスト膜に、該フォトレジスト膜と対向して配置されたフォトレジスト膜除去剤供給板から、オゾン化ガスおよびフォトレジスト膜除去溶液を含むフォトレジスト膜除去剤を均等にかつ連続的または断続的に供給して該フォトレジスト膜を除去する方法。

Claim (excerpt)：

密閉された系内において、基板表面上に塗布されたフォトレジスト膜に、該フォトレジスト膜と対向して配置されたフォトレジスト膜除去剤供給板から、オゾン化ガスおよびフォトレジスト膜除去溶液を含むフォトレジスト膜除去剤を均等にかつ連続的または断続的に供給して該フォトレジスト膜を除去する方法。

IPC (5)：

H01L 21/027 , G03F 7/26 , G03F 7/42 , H01L 21/3065 , H01L 21/306

FI (6)：

H01L 21/30 572 B , G03F 7/26 , G03F 7/42 , H01L 21/302 H , H01L 21/306 D , H01L 21/306 R

F-Term (31)：

2H096AA25 , 2H096AA27 , 2H096HA28 , 2H096LA02 , 2H096LA03 , 2H096LA25 , 5F004BB12 , 5F004BB24 , 5F004BB26 , 5F004BB29 , 5F004BD01 , 5F004CA02 , 5F004CA04 , 5F004DA26 , 5F004DA27 , 5F004DB26 , 5F004EA10 , 5F043BB30 , 5F043CC16 , 5F043DD04 , 5F043DD06 , 5F043DD07 , 5F043DD15 , 5F043EE08 , 5F043EE10 , 5F043EE12 , 5F043EE35 , 5F043EE37 , 5F046MA05 , 5F046MA10 , 5F046MA13

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

洗浄装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-057672 Applicant：株式会社日立製作所
有機物除去方法及び有機物除去装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-159192 Applicant：株式会社日立製作所
有機物除去方法及びその方法を使用するための装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-290259 Applicant：株式会社日立製作所

Show all

Return to Previous Page