LSI設計支援システムおよびプログラム

Inventor： , , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (8)：三好秀和 , 三好保男 , 岩▲崎▼ 幸邦 , 川又澄雄 , 中村友之 , 伊藤正和 , 高橋俊一 , 高松俊雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002170612
Publication number (International publication number)：2004013851
Application date： Jun. 11, 2002
Publication date： Jan. 15, 2004
Summary：

【課題】LSIのインタフェース部分を設計する際の負担を軽減する。【解決手段】端末1、LSIの外部情報3と内部情報4とライブラリ情報5をデータベースから読み出し、これら外部情報3、内部情報4、ライブラリ情報5を用いてインタフェース部分の設計情報を記録したI/F情報テーブルを自動生成する。この自動生成に際しては、外部信号と内部信号とを対応させるとともに、両信号間に配置するバッファを決定し、両信号名と決定したバッファとを対応させてI/F情報テーブルに記録する。バッファの決定では、ライブラリ情報に記録されているバッファの中から、少なくとも遅延時間の計算値が期待値よりも小さいもの、さらにはその中で計算値が最小のものを選択する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

LSIの外部情報と内部情報とライブラリ情報を記憶しておく記憶手段と、前記外部情報と前記内部情報と前記ライブラリ情報を用いてLSIのインタフェース部分の設計情報を生成する生成手段と、を有することを特徴とするLSI設計支援システム。

IPC (1)：

G06F17/50

FI (3)：

G06F17/50 654K , G06F17/50 654M , G06F17/50 656D

F-Term (4)：

5B046AA08 , 5B046BA03 , 5B046CA03 , 5B046KA06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

回路設計支援装置、方法、及び記録媒体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-290867 Applicant：日本電気株式会社
半導体集積回路の設計方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-107351 Applicant：日本電気株式会社
難燃性ポリプロピレン組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-184204 Applicant：エイチピージーインターナショナルインコーポレーテッド

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