Pat
J-GLOBAL ID:200903001771919890

2次元分光装置及び膜厚測定装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 中野 雅房
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003321267
Publication number (International publication number):2005091003
Application date: Sep. 12, 2003
Publication date: Apr. 07, 2005
Summary:
【課題】 測定対象物の2次元領域で薄膜の膜厚をインライン計測する膜厚測定装置において、計測対象物の距離の変動や傾きの変動に対して測定結果を安定させる。【解決手段】 光源50から水平に出た光を投光レンズ51を通してハーフミラー52に入射させる。ハーフミラー52で反射した光は、対物レンズ53によって対象物43に同軸落射される。対物レンズ53で反射した光は、対物レンズ53及び開口絞り54からなる物体側テレセントリック光学系を通して撮像部56に結像される。撮像部56に入射する光は、マルチ分光フィルタ55に設けた分光フィルタによって分光される。ここで、光源50と開口絞り54とが結像関係にあり、対象物43と撮像部56が結像関係にある。さらに、投光光学系における像側の開口数が、受光光学系における物側の開口数よりも大きくなっており、光源50は開口絞り54の位置に、ある程度の広がりを有し、均一な光強度の像を形成する。【選択図】 図8
Claim (excerpt):
光源から測定対象物に向けて光を照射する投光光学系と、 測定対象物の単色画像を取り込む撮像手段と、 測定対象物の像を前記撮像手段に結像させる受光光学系とを備えた2次元分光装置において、 前記受光光学系を、結像素子及び開口絞りからなるテレセントリック受光光学系によって構成したことを特徴とする2次元分光装置。
IPC (4):
G01N21/27 ,  G01B11/06 ,  G02F1/13 ,  H01L21/66
FI (5):
G01N21/27 B ,  G01N21/27 A ,  G01B11/06 G ,  G02F1/13 101 ,  H01L21/66 P
F-Term (60):
2F065AA30 ,  2F065BB01 ,  2F065CC17 ,  2F065CC31 ,  2F065FF51 ,  2F065GG02 ,  2F065GG24 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL00 ,  2F065LL03 ,  2F065LL05 ,  2F065LL08 ,  2F065LL22 ,  2F065LL30 ,  2F065LL46 ,  2F065LL59 ,  2F065LL67 ,  2F065NN02 ,  2F065NN16 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ18 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ26 ,  2G059AA03 ,  2G059AA05 ,  2G059BB10 ,  2G059BB15 ,  2G059BB16 ,  2G059EE02 ,  2G059FF01 ,  2G059GG05 ,  2G059GG10 ,  2G059JJ01 ,  2G059JJ02 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ22 ,  2G059KK04 ,  2G059MM01 ,  2G059MM05 ,  2G059MM09 ,  2G059MM10 ,  2G059PP04 ,  2H088FA20 ,  2H088FA30 ,  2H088HA03 ,  2H088HA04 ,  2H088MA17 ,  2H088MA20 ,  4M106AA01 ,  4M106AA20 ,  4M106BA04 ,  4M106CA48 ,  4M106DH03 ,  4M106DH12 ,  4M106DH31 ,  4M106DH38 ,  4M106DH39
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
  • 特願2001-506442
  • 分光反射率測定装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平8-262828   Applicant:大日本スクリーン製造株式会社
Cited by examiner (6)
Show all
Article cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

Return to Previous Page