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J-GLOBAL ID:200903021354145238
膜厚測定装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
飯塚 信市
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001309172
Publication number (International publication number):2003114107
Application date: Oct. 04, 2001
Publication date: Apr. 18, 2003
Summary:
【要約】【課題】 液晶表示パネルのカラーフィルタを構成するRGB各レジスト膜の膜厚を正確に測定可能な光干渉式の膜厚測定装置を提供すること。【解決手段】 赤外光を発する光源部と、光源部から発せられた赤外光を測定物体である膜体に向けて出射すると共にその反射光を入射して分光部へと導く送受光学系と、分光部から得られる一連の成分光を適宜に区分して個別に光電変換する光電変換部と、光電変換部から得られる干渉波形相当の電気信号に基づいて膜厚を求める演算部と、を具備する。
Claim (excerpt):
測定光として赤外光を使用することを特徴とする光干渉式の膜厚測定装置。
F-Term (31):
2F065AA30
, 2F065BB01
, 2F065CC25
, 2F065CC31
, 2F065DD02
, 2F065FF51
, 2F065GG07
, 2F065GG13
, 2F065GG23
, 2F065GG24
, 2F065HH13
, 2F065JJ02
, 2F065JJ03
, 2F065JJ09
, 2F065JJ18
, 2F065JJ25
, 2F065JJ26
, 2F065LL00
, 2F065LL03
, 2F065LL04
, 2F065LL20
, 2F065LL67
, 2F065NN02
, 2F065NN16
, 2F065QQ00
, 2F065QQ03
, 2F065QQ18
, 2F065QQ23
, 2F065QQ26
, 2F065QQ27
, 2F065QQ29
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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フ-リエ分光法を用いた厚み測定方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-013091
Applicant:日本電子株式会社
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厚さ測定装置および厚さ制御装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-078213
Applicant:株式会社日立製作所
-
半導体基体の厚さ測定方法及びその測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-021291
Applicant:インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション, 株式会社東芝
-
膜厚測定装置および膜厚測定方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-338563
Applicant:大日本スクリーン製造株式会社
-
分光測定方法と装置および温度測定装置と膜圧測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-326600
Applicant:株式会社東芝
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特開平4-076407
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分布測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-120652
Applicant:セイコーエプソン株式会社
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