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J-GLOBAL ID:200903001957763350
重ね合わせ精度測定方法。
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
宮越 典明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999111464
Publication number (International publication number):2000306793
Application date: Apr. 19, 1999
Publication date: Nov. 02, 2000
Summary:
【要約】【課題】 実際の半導体装置のパターンの重ね合わせずれ量が0にならない。【解決手段】 半導体装置の露光時に、実際の半導体装置のパターンと、重ね合わせ精度測定用パターンのずれ量と、を重ね合わせ精度測定用パターンに対応した特定のコマ収差の関数で相関付け、実際の半導体装置のパターンの配線幅等の寸法に応じた補正を行うことにより、実際の半導体装置のパターンのずれ量を正確に算出し、重ね合わせずれ量を0に近づける。
Claim (excerpt):
半導体装置の露光時における重ね合わせ精度測定方法において、実際の半導体装置のパターンと、重ね合わせ精度測定用パターンのずれ量とを該重ね合わせ精度測定用パターンに応じた特定のコマ収差の関数で相関付けることを特徴とする重ね合わせ精度測定方法。
F-Term (9):
5F046BA03
, 5F046DA13
, 5F046EA03
, 5F046EA04
, 5F046EA09
, 5F046EA10
, 5F046EB01
, 5F046EC05
, 5F046FC04
Patent cited by the Patent: