Pat
J-GLOBAL ID：200903002111567377
3つの異なる位相シフト領域を有する位相シフトマスクおよびその製造方法
Inventor：
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
西川 惠清 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999343129
Publication number (International publication number)：2001166451
Application date： Dec. 02, 1999
Publication date： Jun. 22, 2001
Summary：
【要約】【課題】 光の回折や散乱により未露光領域においてコーナーが丸みを帯びる問題、いわゆるコーナーラウンド問題(corner round problem)を解消するための3つの異なる位相シフト領域を有する位相シフトマスクおよびその製造方法を提供することである。【解決手段】 透明基板の第1部分を覆うとともに、透明基板の第2部分を露出する不透明マスクパターン415を透明基板上に設ける。不透明マスクパターンのコーナー周囲の近接領域は、互いから120°の位相シフトで異なる3つの位相シフト領域430、440,450に均等に分割される。これら3つの位相シフト領域の形成は、第1位相シフト430と第2位相シフト領域440を形成するための2回のエッチングステップによって達成される。すなわち、2回のエッチングステップの両方が実施された領域が第3位相シフト領域450となる。
Claim (excerpt)：
透明基板と、前記透明基板の第2部分の透光性を維持しながら、前記透明基板の第1部分をカバーする不透明パターンと、第2部分に設けられ、互いから120°の位相シフトで異なる3つの位相シフト領域とを含み、前記不透明パターンのコーナー周囲の近接領域が前記3つの位相シフト領域によって均等に分割されることを特徴とする3つの異なる位相シフト領域を有する位相シフトマスク。
IPC (2)：
FI (2)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 528
2H095BB02
, 2H095BB03
, 2H095BC08
, 5F046AA25
, 5F046BA08
, 5F046CB17
Cited by applicant (3)
-
特公平1-051825
-
位相シフトマスク
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平5-162920
Applicant：株式会社東芝
-
マスク及びその製造方法並びにマスクを用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平8-185104
Applicant：富士通株式会社
Cited by examiner (6)
Show all
Return to Previous Page
