製造設備歩留まり向上システム

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：長谷川芳樹 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000548916
Publication number (International publication number)：2002515650
Application date： May. 04, 1999
Publication date： May. 28, 2002
Summary：

【要約】歩留まり向上システムは、欠陥分類情報と属性情報を全体的分類体系に体系づける。製造設備Fの歩留まり向上システム18は、欠陥データと、製造設備ホスト20といくつかの製造設備機器22、24および26により生成されたその他の情報を処理する。欠陥知識データベース30は、処理機器と歩留まり向上システム18により生成される欠陥データを蓄積している。欠陥データベース30は既知の欠陥、特徴およびその発生源の参照データベースを提供する。自動欠陥発生源特定システム32は、IADCからの全情報と欠陥データベースを結びつける。特定システム32は、次に知的決定アルゴリズムをこの情報へ加え、欠陥の発生源を特定する。全体的クラスは、欠陥発生源の特定と検査および再検査計画の生成のために使用される。システムは、データベースに欠陥情報を蓄積し、情報を頻繁に洗練して分類割り当ておよび欠陥発生源特定の確度を向上する。

Claim (excerpt)：

半導体製造設備における欠陥分類方法であって、ウェハ分析機器から欠陥に関する分類データを受け取る工程と、前記ウェハ分析機器から欠陥に関する欠陥属性データを受け取る工程と、前記分類データと欠陥属性データに基づき全体的分類を欠陥に割り当てる工程とを含む、欠陥分類方法。

IPC (2)：

H01L 21/66 , H01L 21/02

FI (2)：

H01L 21/66 Z , H01L 21/02 Z

F-Term (7)：

4M106AA01 , 4M106DA15 , 4M106DH49 , 4M106DH60 , 4M106DJ18 , 4M106DJ20 , 4M106DJ21

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

半導体素子の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-147005 Applicant：株式会社日立製作所
半導体装置の製造システム及び製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-179793 Applicant：株式会社日立製作所
表面異物検査装置及びそれを用いた表面異物分類方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-002395 Applicant：松下電器産業株式会社

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