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J-GLOBAL ID:200903002437476762

音声信号処理方法、音声信号処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 脇 篤夫 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000381703
Publication number (International publication number):2002186100
Application date: Dec. 11, 2000
Publication date: Jun. 28, 2002
Summary:
【要約】【課題】 再生用スピーカの数や配置に柔軟に対応して、測定環境での残響、音像定位を再現すると共に、測定環境での作業効率を向上する。【解決手段】 測定環境の第一閉曲面において測定用スピーカから測定用音声を出力してインパルス応答を測定し(S001)、測定したインパルス応答に基づいて伝達関数Hを求める(S002)。そして、再現環境の第一閉曲面において伝達関数Hに基づく演算処理を施された音声信号によって再現用音声を出力して(S003)、第二閉曲面において再現用音声のインパルス応答を測定し(S004)、さらに第二閉曲面で測定したインパルス応答に基づいて伝達関数Gを求める(S005)。再生環境において音声の再生を行う場合に、再生された音声再生信号に対して伝達関数Gに基づく演算処理を施して出力する(S006)。
Claim (excerpt):
第一の閉曲面の外側に配される第一の音源から第一の音声を発音する第一の発音工程と、前記第一の閉曲面上における複数の位置で前記第一の音声の音声信号を測定する第一の測定工程と、前記第一の測定工程によって測定された音声信号に基づいて、前記第一の音源から前記第一の閉曲面上の前記複数の位置までのそれぞれに対応した第一の伝達関数を生成する伝達関数生成工程と、前記第一の閉曲面における前記複数の位置と幾何学的に同等な位置に第二の音源を配置して、前記第一の伝達関数に基づいた第二の音声を発音する第二の発音工程と、前記第一の閉曲面の内側に配される第二の閉曲面上における複数の位置で前記第二の音声の音声信号を測定する第二の測定工程と、前記第二の測定工程によって測定された音声信号に基づいて、前記第二の音源から前記第二の閉曲面における前記複数の位置までのそれぞれに対応した第二の伝達関数を生成する伝達関数生成工程と、入力した音声信号に対して、前記第二の伝達関数に基づく演算処理を施して音声信号を得る演算工程と、前記演算工程によって前記第二の伝達関数に基づいて得られた音声信号を出力する音声信号出力工程と、を備えたことを特徴とする音声信号処理方法。
IPC (3):
H04S 7/00 ,  G10K 15/00 ,  H04R 5/027
FI (3):
H04S 7/00 Z ,  H04R 5/027 Z ,  G10K 15/00 L
F-Term (2):
5D011AB01 ,  5D062CC13
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (13)
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