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J-GLOBAL ID：200903068598381525

液浸リソグラフィ用ウェハテーブル

Inventor：
ハゼルトン, アンドリュー, ジェイ.

About ハゼルトン, アンドリュー, ジェイ.

, 
高岩 宏明

About 高岩 宏明


Applicant, Patent owner：
株式会社ニコン

About 株式会社ニコン


Agent (1)： 川北 喜十郎
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2006518633
Publication number (International publication number)：2007527611
Application date： Jun. 02, 2004
Publication date： Sep. 27, 2007
Summary：
液体を、液浸リソグラフィシステムのレンズとウェハテーブルアセンブリの間に実質的に閉じ込めることを可能とするための方法及び装置が開示される。本発明の一態様に従えば、露光装置はレンズとウェハテーブルアセンブリを含む。ウェハテーブルアセンブリは上面を有し、ウェハを支持して、レンズ及び少なくとも1つのコンポーネントに対して動かされるように配置されている。ウェハの上面とコンポーネントの上面は各々、ウェハテーブルアセンブリの上面とほぼ同じ高さである。ウェハの上面、ウェハテーブルアセンブリの上面及び少なくとも一つのコンポーネントの上面を含むウェハテーブルアセンブリの全上面は、実質的に平面状である。
Claim (excerpt)：
レンズと、 ウェハテーブルと少なくとも一つのコンポーネントとを備え、前記ウェハテーブルアセンブリは表面を有し、前記ウェハテーブルアセンブリは、前記レンズに対して移動されるべきウェハと少なくとも一つのコンポーネントを支持するように配置され、前記ウェハの表面及び前記少なくとも1つのコンポーネントの表面は各々前記ウェハテーブルアセンブリの前記表面とほぼ同じ高さであって、 前記ウェハテーブルは液浸の用途に好適である装置。
IPC (2)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20
FI (3)：
H01L21/30 515G ,  H01L21/30 515D ,  G03F7/20 521
F-Term (5)：
5F046BA03 ,  5F046CB24 ,  5F046CC01 ,  5F046CC08 ,  5F046DA27
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
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