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J-GLOBAL ID：200903002616177450

真空チャンバーの減圧方法

Inventor：
釆山 和弘

About 釆山 和弘


Applicant, Patent owner：
シャープ株式会社

About シャープ株式会社


Agent (1)： 山本 秀策
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000338401
Publication number (International publication number)：2002141291
Application date： Nov. 06, 2000
Publication date： May. 17, 2002
Summary：
【要約】【課題】 ベーキング工程に要する時間を短縮した真空チャンバーの減圧方法を提供する。【解決手段】 大気開放した後の真空チャンバー2を真空排気する際、その初期排気過程において、真空チャンバー2内でプラズマを生成させ、真空チャンバー2の内壁面に存在する吸着ガスとプラズマとの相互作用により、真空チャンバー2の内壁面に吸着した水分を主成分とする吸着ガスを効率良く除去することができるので、その後のベーキング工程に要する時間を短縮して、超高真空域の真空度を得ることができる。
Claim (excerpt)：
ベーキング工程に先行して、またはベーキング工程と同時に、真空チャンバーの内部にプラズマを発生させることにより、前記真空チャンバーの内壁に吸着した吸着ガスを除去すること特徴とする真空チャンバーの減圧方法。
IPC (5)：
H01L 21/205 ,  B01J 3/00 ,  B01J 19/08 ,  C23C 14/00 ,  C23C 16/44
FI (5)：
H01L 21/205 ,  B01J 3/00 N ,  B01J 19/08 E ,  C23C 14/00 B ,  C23C 16/44 J
F-Term (18)：
4G075AA57 ,  4G075CA05 ,  4G075CA47 ,  4G075EB41 ,  4G075FC13 ,  4K029BD01 ,  4K029DA09 ,  4K029FA09 ,  4K030DA06 ,  5F045BB08 ,  5F045BB10 ,  5F045BB14 ,  5F045EB06 ,  5F045EB12 ,  5F045EB15 ,  5F045EE14 ,  5F045EH12 ,  5F045HA01
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
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Cited by examiner (6)
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