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J-GLOBAL ID：200903002683527481

金属膜用研磨剤

Inventor：
加藤 寛

About 加藤 寛

, 
望月 直人

About 望月 直人

, 
林 和彦

About 林 和彦


Applicant, Patent owner：
株式会社トクヤマ

About 株式会社トクヤマ


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999290520
Publication number (International publication number)：2001110761
Application date： Oct. 13, 1999
Publication date： Apr. 20, 2001
Summary：
【要約】【課題】 過酸化水素を酸化剤として使用した金属膜用研磨剤において、極めて安定した高い研磨速度を安定して維持できると共に、スクラッチを発生させること無く、且つ研磨におけるディッシングをも起こし難い、優れた金属膜用研磨剤を提供する。【解決手段】 シリカ粒子、無機アンモニウム塩、過酸化水素及び水よりなり、該過酸化水素の濃度が2〜8重量%であり、且つ、pHが8.5〜10.2の範囲であるシリカスラリーよりなることを特徴とする金属膜用研磨剤。
Claim (excerpt)：
シリカ粒子、無機アンモニウム塩、過酸化水素及び水よりなり、該過酸化水素の濃度が2〜8重量%であり、且つ、pHが8.5〜10.2の範囲であるシリカスラリーよりなることを特徴とする金属膜用研磨剤。
IPC (4)：
H01L 21/304 622 ,  B24B 37/00 ,  C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14
FI (4)：
H01L 21/304 622 D ,  B24B 37/00 H ,  C09K 3/14 550 D ,  C09K 3/14 550 Z
F-Term (7)：
3C058AA07 ,  3C058CA01 ,  3C058CB02 ,  3C058CB03 ,  3C058CB10 ,  3C058DA02 ,  3C058DA12
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (4)
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