洗浄方法及び装置、露光装置、並びに、デバイス製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：藤元亮輔
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005365857
Publication number (International publication number)：2007173344
Application date： Dec. 20, 2005
Publication date： Jul. 05, 2007
Summary：

【課題】表面を酸化させることなく、光洗浄では除去できない有機物汚染を効果的、且つ、短時間で除去することができる洗浄方法及び装置を提供する。【解決手段】被洗浄物を洗浄する洗浄方法であって、前記被洗浄物を収納する処理室を減圧又は真空環境に維持するステップと、水素を含むガスを前記処理室に供給するステップと、前記ガスをプラズマ化するステップとを有し、プラズマ化された前記ガスによって前記被洗浄物を表面処理することを特徴とする洗浄方法を提供する。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

被洗浄物を洗浄する洗浄方法であって、前記被洗浄物を収納する処理室を減圧又は真空環境に維持するステップと、水素を含むガスを前記処理室に供給するステップと、前記ガスをプラズマ化するステップとを有し、プラズマ化された前記ガスによって前記被洗浄物を表面処理することを特徴とする洗浄方法。

IPC (2)：

H01L 21/027 , B08B 7/00

FI (2)：

H01L21/30 514E , B08B7/00

F-Term (6)：

3B116AA03 , 3B116AB43 , 3B116BC01 , 3B116CD11 , 5F046AA17 , 5F046CB01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

光学部品の洗浄方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-236201 Applicant：株式会社ニコン
光学装置用部品の洗浄方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-362358 Applicant：株式会社ニコン
光学部品の洗浄方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-036588 Applicant：株式会社ニコン

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