Pat
J-GLOBAL ID:200903003726330217

FPD用保護膜およびその製造方法ならびにこれを用いたFPD

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (7): 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  江口 昭彦 ,  杉浦 秀幸 ,  村山 靖彦 ,  柳井 則子
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003078290
Publication number (International publication number):2004288454
Application date: Mar. 20, 2003
Publication date: Oct. 14, 2004
Summary:
【課題】保護膜の基板(誘電体層)との密着性および整合性の低下を防止し、かつ保護膜の電気絶縁性の低下を防止する。また膜本体または膜体中のMgO等が大気中のCO2 ガスや H2Oガスと反応することを阻止し、MgO等のFPDに有害なMgCO3 やMg(OH)2 等への変質を防止し、さらに、エージング処理にて容易に、電圧降下させる。【解決手段】基板13の表面に膜本体14aと、膜本体14aの表面に形成された硫酸化物層および/または硫化物層14bとを備えた。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
基板の表面にMgO,CaO,SrO,BaO,アルカリ土類複合酸化物もしくは希土類酸化物,またはアルカリ土類酸化物および希土類酸化物の複合酸化物のいずれかにより形成された膜本体と、前記膜本体の表面に形成された硫酸化物層および/または硫化物層とを備えたことを特徴とするFPD用保護膜。
IPC (2):
H01J11/02 ,  H01J9/02
FI (2):
H01J11/02 B ,  H01J9/02 F
F-Term (10):
5C027AA06 ,  5C027AA07 ,  5C040GE02 ,  5C040GE08 ,  5C040GE09 ,  5C040JA02 ,  5C040JA07 ,  5C040KB19 ,  5C040MA10 ,  5C040MA23
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (12)
Show all

Return to Previous Page