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J-GLOBAL ID:200903064452515125
FPDの保護膜用蒸着材およびその製造方法ならびにこれを用いたFPD
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (7):
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 青山 正和
, 江口 昭彦
, 杉浦 秀幸
, 村山 靖彦
, 柳井 則子
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003072387
Publication number (International publication number):2004281276
Application date: Mar. 17, 2003
Publication date: Oct. 07, 2004
Summary:
【課題】真空成膜用容器の内部に設置した直後の脱ガス排気処理時間を短縮し、広いエリアで膜厚分布が小さく安定した均一な成膜が可能な蒸着材を得る。【解決手段】FPDの保護膜用蒸着材は、表面が硫酸化物層および/または硫化物層12で覆われた多結晶体11,焼結体または単結晶体により形成される。多結晶体11,焼結体または単結晶体が、MgO,CaO,SrO,BaO,アルカリ土類複合酸化物もしくは希土類酸化物,またはアルカリ土類酸化物および希土類酸化物の複合酸化物のいずれかにより形成され、硫酸化物層および/または硫化物層12がガス状硫酸化剤および/または硫化剤とMgO,CaO,SrO,BaO,アルカリ土類複合酸化物もしくは希土類酸化物,またはアルカリ土類酸化物および希土類酸化物の複合酸化物のいずれかとの反応によって得られる。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
表面が硫酸化物層および/または硫化物層で覆われた多結晶体,焼結体または単結晶体により形成されたことを特徴とするFPDの保護膜用蒸着材。
IPC (5):
H01J9/02
, C23C14/06
, C23C14/08
, C23C14/24
, H01J11/02
FI (8):
H01J9/02 F
, C23C14/06 D
, C23C14/06 K
, C23C14/06 P
, C23C14/08 J
, C23C14/08 K
, C23C14/24 E
, H01J11/02 B
F-Term (15):
4K029BA41
, 4K029BA43
, 4K029BA50
, 4K029BA51
, 4K029BB00
, 4K029BB02
, 4K029BB08
, 4K029BB09
, 4K029BC00
, 4K029BD00
, 5C027AA07
, 5C040GE07
, 5C040GE08
, 5C040GE09
, 5C040JA07
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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