露光フィルター、パターン形成方法および露光装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大胡典夫 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000159184
Publication number (International publication number)：2001284245
Application date： Mar. 31, 2000
Publication date： Oct. 12, 2001
Summary：

【要約】【課題】露光光量が十分に取れ、短時間でパターン形成が可能な露光フィルター、パターン形成方法および露光装置を提供すること。【解決手段】少なくとも、透明体11と、該透明体11上に形成された、貴金属微粒子13からなるパターンと、該貴金属微粒子13に透明基板11側から全反射モ-ドで光を照射するための手段を有することを特徴とする露光フィルター。

Claim (excerpt)：

透明体と、該透明体上に形成された、貴金属微粒子からなるパターンと、該貴金属微粒子に前記透明基板側から全反射モ-ドで光を照射するための手段を有することを特徴とする露光フィルター。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2)：

G03F 7/20 521 , H01L 21/30 502 D

F-Term (6)：

5F046BA01 , 5F046BA02 , 5F046BA10 , 5F046CB08 , 5F046CB10 , 5F046CB23

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

光露光または転写方法および装置またはそのためのマスク
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-319781 Applicant：株式会社日立製作所
フォトン走査トンネル顕微鏡用ピックアップ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-038585 Applicant：シャープ株式会社
光リソグラフィ方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-249138 Applicant：株式会社日立製作所

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