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J-GLOBAL ID：200903004079562930

薄膜製造装置及び薄膜製造方法

Inventor：
田淵 勝也

About 田淵 勝也


Applicant, Patent owner：
富士電機システムズ株式会社

About 富士電機システムズ株式会社


Agent (1)： 天田 昌行
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007244466
Publication number (International publication number)：2009076690
Application date： Sep. 20, 2007
Publication date： Apr. 09, 2009
Summary：
【課題】可撓性基板の利用率を向上させることができる薄膜製造装置及び薄膜製造方法を提供すること。【解決手段】長尺の可撓性基板111上の長手方向の複数の領域に対してそれぞれ成膜処理を施して複数の成膜領域を形成することにより、可撓性基板111上に複数の薄膜太陽電池を形成する薄膜製造装置100であって、複数の領域に対してそれぞれ成膜処理を施すことにより、長手方向に同じ長さの成膜領域をそれぞれ形成すると共に、成膜領域の長さL1の整数倍の間隔で配置された複数の成膜室131〜135と、可撓性基板111を成膜室131〜135の配置間隔ごとに順次ステップ送りする駆動手段とを具備する。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
長尺の可撓性基板上の長手方向の複数の領域に対してそれぞれ成膜処理を施して複数の成膜領域を形成することにより、前記可撓性基板上に複数の薄膜太陽電池を形成する薄膜製造装置であって、 前記複数の領域に対してそれぞれ成膜処理を施すことにより、前記長手方向に同じ長さの前記成膜領域をそれぞれ形成すると共に、前記成膜領域の長さの整数倍の間隔で配置された複数の成膜室と、 前記可撓性基板を前記成膜室の配置間隔ごとに順次ステップ送りする駆動手段と を具備したことを特徴とする薄膜製造装置。
IPC (4)：
H01L 21/205 ,  C23C 14/56 ,  C23C 16/44 ,  H01L 31/04
FI (4)：
H01L21/205 ,  C23C14/56 A ,  C23C16/44 F ,  H01L31/04 T
F-Term (60)：
4K029AA11 ,  4K029AA25 ,  4K029BA04 ,  4K029BA35 ,  4K029BA50 ,  4K029BB10 ,  4K029CA05 ,  4K029DA08 ,  4K029DC03 ,  4K029DC05 ,  4K029DC34 ,  4K029JA10 ,  4K029KA03 ,  4K030AA06 ,  4K030AA17 ,  4K030BA30 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030DA06 ,  4K030FA10 ,  4K030GA14 ,  4K030HA03 ,  4K030HA04 ,  4K030KA08 ,  4K030LA16 ,  5F045AA08 ,  5F045AB04 ,  5F045AC01 ,  5F045AE19 ,  5F045AF01 ,  5F045AF11 ,  5F045BB08 ,  5F045CA13 ,  5F045DA52 ,  5F045DA57 ,  5F045DP22 ,  5F045DQ15 ,  5F045DQ17 ,  5F045EB10 ,  5F045EB11 ,  5F045EC01 ,  5F045EH14 ,  5F045EK07 ,  5F045EN04 ,  5F045EN06 ,  5F045HA23 ,  5F045HA24 ,  5F051AA05 ,  5F051BA11 ,  5F051CA02 ,  5F051CA03 ,  5F051CA04 ,  5F051CA13 ,  5F051CA16 ,  5F051CA22 ,  5F051CA26 ,  5F051DA17 ,  5F051FA04 ,  5F051FA06 ,  5F051GA05
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
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Cited by examiner (5)
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