塗布、現像装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：井上俊夫 , 水野洋美
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005297989
Publication number (International publication number)：2006287178
Application date： Oct. 12, 2005
Publication date： Oct. 19, 2006
Summary：

【課題】露光装置のメンテナンスを所望のタイミングで行うことができる塗布、現像装置を提供すること。【解決手段】キャリアブロックに搬入された基板を処理ブロックに搬送して塗布膜を形成した後、インターフェイスブロックを介して露光装置に搬送し、前記インターフェイスブロックを介して戻ってきた露光後の基板を前記処理ブロックにて現像処理してキャリアブロックに搬送する塗布、現像装置において、前記塗布膜形成用のブロック及び現像用のブロックに対して積層され、キャリアブロックとインターフェイスブロックとの間で塗布膜が形成された基板を、キャリアブロック側からインターフェイスブロック側に直通搬送する搬送手段を設ける。このように構成することで塗布膜形成用のブロックと現像用のブロックとがメンテナンス中であっても検査用基板を露光装置に搬送できるので、露光装置の状態を検査することができる。【選択図】図9

Claim (excerpt)：

キャリアブロックにキャリアにより搬入された基板を処理ブロックに受け渡し、この処理ブロックにて感光材料膜を含む塗布膜を形成した後、インターフェイスブロックを介して露光装置に搬送し、前記インターフェイスブロックを介して戻ってきた露光後の基板を前記処理ブロックにて現像処理して前記キャリアブロックに受け渡す塗布、現像装置において、 a)前記処理ブロックは、各々キャリアブロック側からインターフェイスブロック側に伸び、感光材料からなる塗布膜を含む膜を形成するための塗布膜形成用のブロックと、この塗布膜形成用のブロックに対して積層された現像用のブロックと、を備え、 b)前記塗布膜形成用のブロック及び現像用のブロックは、薬液を基板に塗布するための液処理ユニットと、基板を加熱する加熱ユニットと、基板を冷却する冷却ユニットと、これらユニット間で基板を搬送するブロック用の搬送手段と、を備え、 c)前記塗布膜形成用のブロック及び現像用のブロックに対して積層され、キャリアブロックとインターフェイスブロックとの間で基板の直通搬送を行うための直通搬送手段が設けられ、 d)塗布膜が形成された基板は、前記直通搬送手段を通じてキャリアブロック側からインターフェイスブロック側に搬送されることを特徴とする塗布、現像装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 7/30

FI (4)：

H01L21/30 562 , H01L21/30 564Z , H01L21/30 569D , G03F7/30 501

F-Term (6)：

2H096AA25 , 2H096JA01 , 5F046AA17 , 5F046JA22 , 5F046LA11 , 5F046LA18

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

特許第3337677号公報
基板処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-009958 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
基板搬送装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-215905 Applicant：東京エレクトロン株式会社

Show all

Return to Previous Page