Pat
J-GLOBAL ID:200903004330848570

パターン検査装置、パターン検査方法およびプログラム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 松阪 正弘
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002170109
Publication number (International publication number):2004012422
Application date: Jun. 11, 2002
Publication date: Jan. 15, 2004
Summary:
【課題】欠陥を適切に検出する検査装置を提供する。【解決手段】検査装置1は、基板9を撮像する撮像部2、撮像部2から画像の信号が入力される演算部4、および、コンピュータ5を有し、演算部4は撮像部2が取得した対象物画像から被検査画像および参照画像を特定する。演算部4の分類教示部501は被検査画像から分類教示画像を生成し、画像サンプリング部502が分類教示画像から複数の画素を抽出するとともに特徴量算出部43が被検査画像および参照画像中の対応する画素の値から画素特徴量を算出する。データセット生成部503は抽出した画素に関する画像特徴量および分類のデータセットを生成する。欠陥判定器構築部504においてデータセットを用いた学習が行われることにより欠陥判定条件が生成され、検査出力部44に入力される。これにより、検査装置1では欠陥を効率よく適切に検出することが実現される。【選択図】 図3
Claim (excerpt):
対象物上のパターンの検査を行うパターン検査装置であって、 対象物を撮像して多階調の被検査画像のデータを取得する撮像部と、 参照画像のデータおよび被検査画像中の画素に分類を付与した分類データを記憶する記憶手段と、 被検査画像から選択された複数の画素のそれぞれの値、および、参照画像中の対応する画素の値に基づいて特徴量を算出する特徴量算出手段と、 前記複数の画素のそれぞれについての特徴量および分類の組み合わせを示すデータセットを生成するデータセット生成手段と、 前記データセットを用いて学習を行うことにより、入力される特徴量に応じて分類結果を出力する判定器を構築する判定器構築手段と、 を備えることを特徴とするパターン検査装置。
IPC (5):
G01N21/956 ,  G06T1/00 ,  G06T7/00 ,  H01L21/66 ,  H05K3/00
FI (6):
G01N21/956 Z ,  G06T1/00 305A ,  G06T7/00 300F ,  H01L21/66 J ,  H01L21/66 Z ,  H05K3/00 Q
F-Term (38):
2G051AA51 ,  2G051AA65 ,  2G051AB02 ,  2G051CA04 ,  2G051DA05 ,  2G051EA04 ,  2G051EA08 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EC01 ,  2G051EC03 ,  2G051ED07 ,  2G051ED21 ,  4M106AA01 ,  4M106CA39 ,  4M106DB04 ,  4M106DJ21 ,  4M106DJ27 ,  4M106DJ28 ,  5B057AA03 ,  5B057BA02 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057DA03 ,  5B057DC32 ,  5B057DC36 ,  5B057DC40 ,  5L096BA03 ,  5L096EA06 ,  5L096EA11 ,  5L096FA74 ,  5L096GA08 ,  5L096HA07 ,  5L096HA11 ,  5L096JA09 ,  5L096JA11 ,  5L096KA11
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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