液浸露光用感放射線性樹脂組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：小島清路 , 萩野義昇 , 谷口直也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006124236
Publication number (International publication number)：2007298569
Application date： Apr. 27, 2006
Publication date： Nov. 15, 2007
Summary：

【課題】得られるパターン形状が良好であり、焦点深度に優れ、且つ液浸露光時に接触した水への溶出物の量が少ない液浸露光用感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】本液浸露光用感放射線性樹脂組成物は、水を介してレジスト被膜を露光する液浸露光に用いられる液浸露光用感放射線性樹脂組成物であって、樹脂と、感放射線性酸発生剤と、t-ブトキシカルボニル基が窒素原子に結合している化合物からなる酸拡散制御剤と、溶剤と、を含有する。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

水を介してレジスト被膜を露光する液浸露光に用いられる液浸露光用感放射線性樹脂組成物であって、樹脂と、感放射線性酸発生剤と、t-ブトキシカルボニル基が窒素原子に結合している化合物からなる酸拡散制御剤と、溶剤と、を含有することを特徴とする液浸露光用感放射線性樹脂組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 , G03F 7/004 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F7/039 601 , G03F7/004 501 , H01L21/30 502R

F-Term (10)：

2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CC20 , 2H025FA03 , 2H025FA12

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

国際公開WO2004/068242号公報
液浸露光プロセス用レジスト組成物、該レジスト材料を用いたレジストパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-416700 Applicant：東京応化工業株式会社

Cited by examiner (8)

感放射線性酸発生剤およびポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-224107 Applicant：JSR株式会社
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-359842 Applicant：JSR株式会社
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-028456 Applicant：ジェイエスアール株式会社

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