原子ビーム制御装置および制御方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：福井國敞 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000398289
Publication number (International publication number)：2002196100
Application date： Dec. 27, 2000
Publication date： Jul. 10, 2002
Summary：

【要約】【課題】多重極磁場を通過する原子ビームに光ビームを照射し,原子ビームの位置を制御する原子ビーム制御装置および制御方法に関する。原子ビーム位置を自動制御し,描画位置を二次元的に移動するようにすることを目的とする。【解決手段】多重極磁場を通過する原子ビームに光ビームを照射して,原子ビームの位置を制御する原子ビーム制御装置において,原子ビームの位置を検出するためのプローブ光を発生するプローブ光発生器と,プローブ光を受光する光検出器と,該光検出器の出力値に基づいて原子ビームの位置を制御する多重極磁場生成電極に流れる電流を制御する電流制御部とを備える。

Claim (excerpt)：

多重極磁場を通過する原子ビームに光ビームを照射して,原子ビームの位置を制御する原子ビーム制御装置において,原子ビームの位置を検出するためのプロープ光を発生するプローブ光発生部と,プローブ光を受光する光検出器と,該光検出器の出力値に基づいて原子ビームの位置を制御する多重極磁場生成電極に流れる電流を制御する電流制御部とを備えることを特徴とする原子ビーム制御装置。

IPC (6)：

G21K 1/00 , B01D 59/34 , G21K 1/093 , G21K 5/04 , H01L 21/30 , H01L 21/027

FI (6)：

G21K 1/00 A , B01D 59/34 E , G21K 1/093 S , G21K 5/04 C , H01L 21/30 , H01L 21/30 502 D

F-Term (3)：

5F046BA10 , 5F046DA30 , 5F046DB04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

光ポンピング方式原子ビーム発振器
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-050001 Applicant：日本電信電話株式会社
原子ビーム発生装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-047016 Applicant：日本原子力研究所
原子蒸気生成方法及びこの方法を用いた同位体濃縮方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-280095 Applicant：三菱重工業株式会社

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