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J-GLOBAL ID:200903004915316078
スロットアンテナを用いたカーボンナノチューブ薄膜形成ECRプラズマCVD装置及び該薄膜の形成方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
北村 欣一 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000108319
Publication number (International publication number):2001295047
Application date: Apr. 10, 2000
Publication date: Oct. 26, 2001
Summary:
【要約】【課題】 手間がかからず、カーボンナノチューブの生産能力が高く、電力の消費量が低く、製造コストの安い、スロットアンテナを用いたカーボンナノチューブ薄膜形成ECRプラズマCVD装置及び該薄膜の形成方法の提供。【解決手段】 ECRプラズマCVD装置において、マイクロ波発生システムの下流側に少なくとも1つのスロットアンテナを設け、マイクロ波がスロットアンテナから成膜室内に導入されるように構成する。この装置を用いて、炭素含有ガスと水素ガスとの混合ECRプラズマを発生させ、基板上に均一なかつ基板に対して垂直方向なカーボンナノチューブ薄膜を形成する。
Claim (excerpt):
成膜室と、該成膜室内に設置された基板ホルダーと、該成膜室内に炭素含有ガス及び水素ガスを供給するためのガス供給系と、該基板ホルダーに接続されたバイアス電源と、該成膜室内にECRプラズマを発生させるためのマイクロ波発生システムとを有し、該マイクロ波発生システムの下流側に少なくとも1つのスロットアンテナが設けられ、マイクロ波が該スロットアンテナを経て該成膜室内に導入されるように構成されていることを特徴とするスロットアンテナを用いたカーボンナノチューブ薄膜形成ECRプラズマCVD装置。
IPC (4):
C23C 16/26
, B01J 19/12
, C01B 31/02 101
, C23C 16/511
FI (4):
C23C 16/26
, B01J 19/12 G
, C01B 31/02 101 F
, C23C 16/511
F-Term (31):
4G046CA02
, 4G046CB01
, 4G046CC06
, 4G046CC09
, 4G075AA24
, 4G075AA30
, 4G075AA62
, 4G075BA06
, 4G075BC04
, 4G075BD14
, 4G075CA02
, 4G075CA26
, 4G075CA47
, 4G075CA57
, 4G075CA62
, 4G075EB44
, 4G075EC21
, 4G075EC30
, 4G075FB02
, 4K030AA09
, 4K030AA10
, 4K030AA17
, 4K030BA27
, 4K030BB11
, 4K030CA02
, 4K030FA02
, 4K030GA02
, 4K030JA16
, 4K030KA20
, 4K030KA30
, 4K030KA45
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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マイクロ波プラズマCVD膜形成方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-019500
Applicant:日電アネルバ株式会社
-
有磁場マイクロ波放電反応装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-228331
Applicant:日電アネルバ株式会社
-
特開平2-225671
-
プラズマ処理装置および光学部品の製造法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-343085
Applicant:大見忠弘, キヤノン株式会社
-
炭素系超微細冷陰極及びその作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-301259
Applicant:日本真空技術株式会社
-
プラズマ処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-242233
Applicant:株式会社フロンテック, 大見忠弘
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