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J-GLOBAL ID：200903004929720882

位置決めマークを備えた基板、マスクを設計する方法、コンピュータ・プログラム、位置決めマークを露光するマスク、デバイス製造方法、およびこれらによって製造されるデバイス

Inventor：
ユージェニオ グイド バラリン

About ユージェニオ グイド バラリン


Applicant, Patent owner：
エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ

About エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ


Agent (1)： 浅村 皓 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002182180
Publication number (International publication number)：2003007614
Application date： May. 20, 2002
Publication date： Jan. 10, 2003
Summary：
【要約】【課題】 基板に重ね合せられた実質的に透過性のある処理層内に位置決めマークが設けられた基板を提供する。【解決手段】 位置決めマークは、放射線の位置決めビームの放射を反射する少なくとも1つの比較的反射率の高い領域と、位置決めビームの放射線をあまり反射しない比較的反射率の低い領域を含み、反射率の高い領域が第1方向と第2方向に区分され、反射率の高い領域は主に長方形の区分を含み、両方向が互いに実質的に直角である。
Claim (excerpt)：
基板に重ね合せられた実質的に透過性のある処理層内に位置決めマークが設けられた基板であって、該位置決めマークは、位置決め放射ビームを反射する少なくとも1つの比較的反射率の高い領域と、前記位置決め放射ビームをあまり反射しない比較的反射率の低い領域を含み、前記反射率の高い領域が第1方向と第2方向に区分され、前記反射率の高い領域は主に長方形の区分を含み、両方向が互いに実質的に直角であることを特徴とする基板。
IPC (4)：
H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00
FI (4)：
G03F 1/08 N ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 522 D
F-Term (7)：
2H095BA01 ,  2H095BE03 ,  2H095BE09 ,  5F046EA07 ,  5F046EB02 ,  5F046EB08 ,  5F046ED01
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
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