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J-GLOBAL ID:200903004994306295
保持装置、露光装置及びデバイス製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
藤元 亮輔
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003037565
Publication number (International publication number):2004247619
Application date: Feb. 17, 2003
Publication date: Sep. 02, 2004
Summary:
【課題】結像性能の劣化となる光学部材の変形による収差を低減することで所望の光学性能をもたらし、高解像力を有する投影光学系を実現することができる保持装置を提供する。【解決手段】光学部材を保持するための保持装置であって、前記光学部材の形状の変形量を検出する検出手段と、前記変形量に基づいて、前記光学部材の形状を調整する調整ユニットとを有することを特徴とする保持装置を提供する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
光学部材を保持するための保持装置であって、
前記光学部材の形状の変形量を検出する検出手段と、
前記変形量に基づいて、前記光学部材の形状を調整する調整ユニットとを有することを特徴とする保持装置。
IPC (4):
H01L21/027
, G02B7/00
, G02B7/02
, G03F7/20
FI (5):
H01L21/30 516A
, G02B7/00 B
, G02B7/02 A
, G02B7/02 C
, G03F7/20 521
F-Term (17):
2H043AB06
, 2H043AB10
, 2H043AB18
, 2H043AB19
, 2H043AB21
, 2H043AB26
, 2H043AB31
, 2H043AB35
, 2H043AB38
, 2H044AA15
, 2H044AA16
, 2H044AC01
, 2H044AC04
, 5F046BA03
, 5F046DA12
, 5F046DB04
, 5F046DC06
Patent cited by the Patent:
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Cited by examiner (6)
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