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J-GLOBAL ID：200903005913045251
ルールベースOPCの評価方法およびシミュレーションベースOPCモデルの評価方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
野田 茂
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001139719
Publication number (International publication number)：2002333700
Application date： May. 10, 2001
Publication date： Nov. 22, 2002
Summary：
【要約】【課題】 線幅制御性の評価を正確に行なうことができるルールベースOPCの評価方法およびシミュレーションベースOPCモデルの評価方法を提供する。【解決手段】 ルールベースOPCに評価用マスクのマスクパターンの設計データを入力することにより、得た評価用マスクのマスクパターンの補正データに基づいて評価用ウェハを製作し、評価用ウェハのゲートパターンの測長を行なう。プロセスキャリブレーションがなされたシミュレーションベースOPCモデルに基づいて評価用ウェハ全面のゲートパターンに対応するシミュレーションデータが出力される。評価用ゲートパターンの実測データと、シミュレーションデータを比較することによって、ルールベースOPCの評価を行なう。
Claim (excerpt)：
評価用マスクパターンの設計データをルールベースOPCにより補正処理することによって補正データを得るマスクパターン補正ステップと、前記補正データに基づいて、評価用マスクパターンを評価用マスクに形成する評価用マスク製作ステップと、前記評価用マスクに基づいて、評価用ゲートパターンを評価用ウェハに形成する評価用ウェハ製作ステップと、前記評価用ウェハに形成された前記評価用ゲートパターンの測長を行なうことにより評価用ゲートパターンの実測データを取得する実測ステップと、プロセスキャリブレーションを行なうためのテスト用マスクのテストパターンの設計データと、前記テスト用マスクに基づいて製作されたテスト用ウェハのゲートパターンの実測データとに基づいてプロセスキャリブレーションがなされたシミュレーションベースOPCモデルを生成するシミュレーションベースOPCモデル生成ステップと、前記シミュレーションベースOPCモデルによって前記評価用マスクパターンの設計データに対してシミュレーションを行なうことによりシミュレーションデータを得るシミュレーションステップと、前記評価用ゲートパターンの実測データと前記シミュレーションデータを比較することによって、前記ルールベースOPCの評価を行なう評価ステップと、を含むことを特徴とするルールベースOPCの評価方法。
F-Term (3)：
2H095BA01
, 2H095BB02
, 2H095BB36
Cited by applicant (6)
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Cited by examiner (7)
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