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J-GLOBAL ID：200903006251491554

パターン描画装置

Inventor：
生藤 邦夫

About 生藤 邦夫

, 
横田 晃博

About 横田 晃博


Applicant, Patent owner：
大日本スクリーン製造株式会社

About 大日本スクリーン製造株式会社


Agent (3)： 吉田 茂明 ,  吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006299135
Publication number (International publication number)：2008116646
Application date： Nov. 02, 2006
Publication date： May. 22, 2008
Summary：
【課題】一部の光照射手段に異常が発生した場合にも、描画処理を継続することができるパターン描画装置を提供する。【解決手段】パターン描画装置1は、CCDカメラ41を使用して複数の光学ヘッド32a,32b,...,32gの照射光を撮影し、その撮影結果に基づいて各光学ヘッド32a,32b,...,32gに異常が発生しているか否かを判定する。そして、パターン描画装置1は、異常と判定された光学ヘッドが担当する描画領域を他の光学ヘッドで補完描画する。このため、一部の光照射手段に異常が発生した場合にも、描画処理を継続することができ、装置の稼働率を向上させることができる。【選択図】図6
Claim (excerpt)：
基板の表面に所定のパターンを描画するパターン描画装置において、 表面に感光材料の層が形成された基板を保持する保持手段と、 基板の表面の複数の描画領域のそれぞれに光を照射する複数の光照射手段と、 前記保持手段と、前記光照射手段とを、基板の表面に沿う方向に相対的に移動させる移動手段と、 前記複数の光照射手段のそれぞれに異常が発生しているか否かを判定する異常判定手段と、 前記異常判定手段により異常と判定された光照射手段が担当する描画領域を他の光照射手段で補完描画するように、前記移動手段と前記光照射手段とを制御する制御手段と、 を備えたことを特徴とするパターン描画装置。
IPC (3)：
G03F 7/20 ,  H01L 21/027 ,  G02F 1/13
FI (3)：
G03F7/20 505 ,  H01L21/30 529 ,  G02F1/13 101
F-Term (13)：
2H088FA18 ,  2H088FA24 ,  2H088FA28 ,  2H088FA30 ,  2H097AA03 ,  2H097CA17 ,  2H097GB04 ,  2H097LA09 ,  2H097LA11 ,  2H097LA12 ,  5F046BA06 ,  5F046BA07 ,  5F046DA02
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (4)
  • 露光装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-200726   Applicant：日本電気株式会社
  • 露光装置および露光方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-372335   Applicant：ペンタックス株式会社
  • 露光装置および露光方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-045065   Applicant：シャープ株式会社
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