微細構造体およびその製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：渡辺望稔 , 三和晴子 , 福島弘薫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005055996
Publication number (International publication number)：2005307341
Application date： Mar. 01, 2005
Publication date： Nov. 04, 2005
Summary：

【課題】強度が十分に大きい局在プラズモン共鳴を発生させ、かつ、簡便な製造工程により安価に製造することができ、大面積表面とすることが可能な構造体の提供。【解決手段】マイクロポアが存在する陽極酸化皮膜を表面に有するアルミニウム部材を少なくとも一部に有する構造体であって、前記マイクロポアのポア径の変動係数が5〜50%であり、かつ、前記マイクロポアが金属で封孔されている、構造体。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

マイクロポアが存在する陽極酸化皮膜を表面に有するアルミニウム部材を少なくとも一部に有する構造体であって、前記マイクロポアのポア径の変動係数が5〜50%であり、かつ、前記マイクロポアが金属で封孔されている、構造体。

IPC (4)：

C25D11/04 , C25D11/18 , H01F10/14 , H01F10/16

FI (6)：

C25D11/04 302 , C25D11/04 Z , C25D11/04 308 , C25D11/18 308 , H01F10/14 , H01F10/16

F-Term (5)：

5E049AA01 , 5E049AA04 , 5E049AA07 , 5E049BA01 , 5E049BA11

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

ナノ構造体とその製造方法、電子放出素子及びカ-ボンナノチュ-ブデバイスの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-047540 Applicant：キヤノン株式会社
構造体及び構造体の製造方法並びにこれを用いたセンサ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-001294 Applicant：富士写真フイルム株式会社

Cited by examiner (7)

多孔質構造体及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-311136 Applicant：キヤノン株式会社
構造体及び構造体の製造方法並びにこれを用いたセンサ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-001294 Applicant：富士写真フイルム株式会社
細孔の製造方法、並びに該製造方法により製造された細孔および該細孔を有する構造体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-344134 Applicant：キヤノン株式会社

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