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J-GLOBAL ID：200903008561752083

多孔質構造体及びその製造方法

Inventor：
岩崎 達哉

About 岩崎 達哉

, 
田 透

About 田 透


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (1)： 渡辺 徳廣
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001311136
Publication number (International publication number)：2003113497
Application date： Oct. 09, 2001
Publication date： Apr. 18, 2003
Summary：
【要約】【課題】 基板上に少なくとも2種類以上の異なる孔間隔を有する多孔質体を具備したナノ構造体を提供する。【解決手段】 基板上の2種類以上の部位に多孔質体を具備するナノ構造体の製造方法において、該ナノ構造体は、少なくとも第1の多孔質体と、該第1の多孔質体の孔間隔より小さな孔間隔を有する第2の多孔質体を有し、該製造方法は、少なくとも、(A1)基板上に第1および第2のアルミニウムを主とする部位を形成する工程と、(A2)該第1のアルミニウムを主とする部位を陽極酸化して第1の多孔質体を形成する工程と、(A3)該第2のアルミニウムを主とする部位を陽極酸化して第2の多孔質体を形成する工程を有するナノ構造体の製造方法。
Claim (excerpt)：
基体と、前記基体上に位置する少なくとも2つの多孔質体とを備え、前記多孔質体内の隣接する複数の孔の中心間距離の平均値が前記多孔質体毎に異なることを特徴とする多孔質構造体。
IPC (6)：
C25D 11/04 302 ,  C25D 11/04 101 ,  C25D 11/12 ,  C25D 11/16 ,  C25D 11/18 308 ,  G02B 6/12
FI (7)：
C25D 11/04 302 ,  C25D 11/04 101 ,  C25D 11/12 Z ,  C25D 11/16 ,  C25D 11/18 308 ,  G02B 6/12 N ,  G02B 6/12 Z
F-Term (6)：
2H047KA03 ,  2H047LA18 ,  2H047PA06 ,  2H047QA01 ,  2H047RA08 ,  2H047TA05
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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