Pat
J-GLOBAL ID:200903006618875354
微細砥粒子分散研磨液を含む排水の処理方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
須山 佐一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998316179
Publication number (International publication number):2000140861
Application date: Nov. 06, 1998
Publication date: May. 23, 2000
Summary:
【要約】【課題】 発生汚泥量が少なく、排水中に含まれる前記砥粒子等の懸濁粒子を確実かつ低コストで除去しうる微細砥粒子分散研磨液を含む排水の処理方法を提供すること。【解決手段】 微細砥粒子分散研磨液を含む排水に高分子凝集剤を添加して撹拌する第1の凝集処理工程と、前記第1の凝集処理工程を行った被処理液に無機系凝集剤を添加して撹拌する第2の凝集処理工程と、前記第2の凝集処理工程を行った被処理液に高分子凝集剤を添加し撹拌する第3の凝集処理工程とを、順に行うことによりフロックを形成させる。この後、沈降分離により固液分離し、分離液は処理水とし、分離汚泥は汚泥処理プロセスに送る。この処理方法によれば、発生汚泥量が少なく、排水中に含まれる前記砥粒子等の懸濁粒子を確実かつ低コストで除去することができ、再利用が容易な水質の処理水を得ることができる。
Claim (excerpt):
微細砥粒子分散研磨液を含む排水に高分子凝集剤を添加して撹拌する第1の凝集処理工程と、前記第1の凝集処理工程を行った被処理液に無機系凝集剤を添加して撹拌する第2の凝集処理工程と、前記第2の凝集処理工程を行った被処理液に高分子凝集剤を添加し撹拌する第3の凝集処理工程とを、順に行うことによりフロックを形成させることを特徴とする微細砥粒子分散研磨液を含む排水の処理方法。
IPC (4):
C02F 1/56
, B01D 21/01 102
, B01D 21/01 105
, C02F 1/52
FI (4):
C02F 1/56 K
, B01D 21/01 102
, B01D 21/01 105
, C02F 1/52 K
F-Term (34):
4D015BA03
, 4D015BA05
, 4D015BA24
, 4D015BB09
, 4D015BB14
, 4D015CA20
, 4D015DA04
, 4D015DA05
, 4D015DA16
, 4D015DA17
, 4D015DB03
, 4D015DB14
, 4D015DB19
, 4D015DB32
, 4D015EA14
, 4D015EA32
, 4D015EA35
, 4D062BA03
, 4D062BA05
, 4D062BA24
, 4D062BB09
, 4D062BB14
, 4D062CA20
, 4D062DA04
, 4D062DA05
, 4D062DA16
, 4D062DA17
, 4D062DB03
, 4D062DB14
, 4D062DB19
, 4D062DB32
, 4D062EA14
, 4D062EA32
, 4D062EA35
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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NH4系CMP廃液の処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-272713
Applicant:栗田工業株式会社
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ケミカルメカニカルポリッシング液の再生方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-115555
Applicant:旭化成工業株式会社
-
懸濁粒子を含む排水の処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-208223
Applicant:信越半導体株式会社
-
特開昭63-049291
-
特開昭63-049291
-
CMP排液の凝集処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-190127
Applicant:栗田工業株式会社
-
研磨排水処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-159784
Applicant:オルガノ株式会社
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