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J-GLOBAL ID:200903006907414179
マイクロミラー素子およびその製造方法
Inventor:
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,
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
吉田 稔 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001129596
Publication number (International publication number):2002328316
Application date: Apr. 26, 2001
Publication date: Nov. 15, 2002
Summary:
【要約】【課題】 トーションバーの設計仕様に多様性をもたせることができるとともに、トーションバーの各部を所望の寸法に正確に仕上げることができるマイクロミラー素子およびマイクロミラー素子の製造方法を提供すること。【解決手段】 マイクロミラー素子の製造において、基板110′上に、フレーム113およびミラー形成部111へと加工される箇所をマスクするための第1のマスクパターン10を形成する工程と、基板110′上に、架橋部112へと加工される箇所をマスクするための第2のマスクパターン20を形成する工程と、第1および第2のマスクパターン10,20をマスクとして、基板110′に対して第1のエッチング処理を行う工程と、第2のマスクパターン20を選択的に除去する工程と、第1のマスクパターン10をマスクとして、基板110′に対して第2のエッチング処理を行う工程と、第1のマスクパターン10を除去する工程と、を含めることとした。
Claim (excerpt):
フレームと、ミラー形成部と、当該フレームおよびミラー形成部を連結するトーションバーを含む架橋部と、を備えるマイクロミラー素子を製造するための方法であって、基板上に、前記フレームおよび前記ミラー形成部へと加工される箇所をマスクするための第1のマスクパターンを形成する工程と、前記基板上に、前記架橋部へと加工される箇所をマスクするための第2のマスクパターンを形成する工程と、前記第1および第2のマスクパターンをマスクとして、前記基板に対して第1のエッチング処理を行う工程と、前記第2のマスクパターンを選択的に除去する工程と、前記第1のマスクパターンをマスクとして、前記基板に対して第2のエッチング処理を行う工程と、前記第1のマスクパターンを除去する工程と、を含むことを特徴とする、マイクロミラー素子の製造方法。
IPC (4):
G02B 26/08
, B81B 3/00
, B81C 1/00
, G11B 7/09
FI (4):
G02B 26/08 E
, B81B 3/00
, B81C 1/00
, G11B 7/09 E
F-Term (11):
2H041AA11
, 2H041AB14
, 2H041AC06
, 2H041AZ01
, 2H041AZ08
, 5D118AA06
, 5D118BA01
, 5D118DC07
, 5D118EA00
, 5D118EF03
, 5D118EF07
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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構造体の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-132690
Applicant:株式会社日立製作所, 日立オートモテイブエンジニアリング株式会社
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容量型加速度センサの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-269095
Applicant:株式会社ゼクセル
-
光スキャナー
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-239665
Applicant:キヤノン株式会社
-
静電力駆動光走査装置とその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-218329
Applicant:松下電器産業株式会社
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Cited by examiner (5)
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構造体の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-132690
Applicant:株式会社日立製作所, 日立オートモテイブエンジニアリング株式会社
-
光スキャナー
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-239665
Applicant:キヤノン株式会社
-
容量型加速度センサの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-269095
Applicant:株式会社ゼクセル
-
光スキャナとその駆動方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-205707
Applicant:日本電気株式会社
-
静電力駆動光走査装置とその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-218329
Applicant:松下電器産業株式会社
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