プラズマエッチング装置用フォーカスリング

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：富田和夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999180171
Publication number (International publication number)：2001007090
Application date： Jun. 25, 1999
Publication date： Jan. 12, 2001
Summary：

【要約】【課題】プラズマエッチング装置に使用するフォーカスリングを提供する。【解決手段】最外周上端17から中心に向かって傾斜している傾斜面18を有する均一なプラズマを発生させることのできるプラズマエッチング装置用フォーカスリング。

Claim (excerpt)：

プラズマエッチング装置内で上部電極板と相対向する位置に設置される被エッチング物を支持するためのフォーカスリングにおいて、前記フォーカスリングは、最外周上端から中心に向かって傾斜している傾斜面を有することを特徴とするプラズマエッチング装置用フォーカスリング。

IPC (3)：

H01L 21/3065 , C23F 4/00 , H05H 1/46

FI (3)：

H01L 21/302 C , C23F 4/00 A , H05H 1/46 M

F-Term (28)：

4K057DA20 , 4K057DB20 , 4K057DD01 , 4K057DE20 , 4K057DG07 , 4K057DG08 , 4K057DG12 , 4K057DM04 , 4K057DM08 , 4K057DM35 , 4K057DM37 , 4K057DM40 , 4K057DN01 , 5F004AA01 , 5F004BA04 , 5F004BA06 , 5F004BA07 , 5F004BB11 , 5F004BB18 , 5F004BB22 , 5F004BB23 , 5F004BB28 , 5F004BC08 , 5F004DA16 , 5F004DA22 , 5F004DA26 , 5F004DB03 , 5F004EB03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

プラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-273140 Applicant：東京エレクトロン株式会社
プラズマ処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-338764 Applicant：東京エレクトロン株式会社
プラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-138879 Applicant：株式会社東芝

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