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J-GLOBAL ID：200903007257072860

3次元計測方法及びそれを用いた3次元形状計測装置

Inventor：
野坂 健一郎

About 野坂 健一郎

, 
中原 智治

About 中原 智治


Applicant, Patent owner：
松下電工株式会社

About 松下電工株式会社


Agent (3)： 板谷 康夫 ,  田口 勝美 ,  水田 愼一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006347968
Publication number (International publication number)：2008157797
Application date： Dec. 25, 2006
Publication date： Jul. 10, 2008
Summary：
【課題】3次元計測方法及びそれを用いた装置において、撮像画像の各点におけるコントラストが高い場合であっても、計測結果の信頼性が低い点を検出することができ、測定の信頼性を向上させると共に、計測値の異常値の発生を防止する。【解決手段】縞パターンを計測対象物に投影し、その計測対象物を撮像する過程を、位相を一定間隔でシフトさせて複数回実行する撮像画像取得ステップ(S2)と、複数枚の撮像画像における同一点での実測明度の明度変化に基づいて、縞パターンの位相値、バイアス値及び振幅値を演算すると共に、それらを用いて推定明度を計算し、実測明度と推定明度との差の平方値、又は差の絶対値を、撮像画像取得ステップ(S2)を実行した回数だけ加算した信頼性パラメータを演算するステップ(S3)を備え、信頼性パラメータが予め設定された所定値よりも小さい点のみのデータを用いて3次元形状を計測する。【選択図】図2
Claim (excerpt)：
光の明度が正弦波状に変化する縞パターンを計測対象物に投影し、前記縞パターンが投影された前記計測対象物を投影方向と異なる方向から撮像する過程を、前記縞パターンの位相を一定間隔でシフトさせて複数回実行する撮像画像取得ステップと、 前記撮像画像取得ステップにより得られた複数枚の撮像画像における同一点での実測明度の明度変化に基づいて、前記縞パターンの位相値、バイアス値及び振幅値を演算する演算ステップと、を備え、 前記演算ステップにより求まった位相値から各点での前記計測対象物の高さ情報を求め、3次元形状を計測する3次元形状計測方法において、 前記演算ステップにより求まった前記各点における位相毎の位相値、バイアス値及び振幅値を用いて推定明度を計算し、前記実測明度と前記推定明度との差の平方値、又は差の絶対値を、前記撮像画像取得ステップを実行した回数だけ加算した信頼性パラメータを演算するステップを備え、 前記ステップにより得られた信頼性パラメータが予め設定された所定値よりも小さい点のみのデータを用いて、3次元形状を計測することを特徴とする3次元形状計測方法。
IPC (2)：
G01B 11/25 ,  G06T 1/00
FI (2)：
G01B11/25 H ,  G06T1/00 315
F-Term (33)：
2F065AA53 ,  2F065BB05 ,  2F065DD09 ,  2F065FF01 ,  2F065FF04 ,  2F065FF07 ,  2F065FF09 ,  2F065HH03 ,  2F065HH06 ,  2F065HH07 ,  2F065HH18 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ19 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL04 ,  2F065LL18 ,  2F065LL33 ,  2F065LL53 ,  2F065MM16 ,  2F065NN01 ,  2F065NN08 ,  2F065QQ21 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ29 ,  2F065QQ31 ,  2F065QQ41 ,  2F065UU05 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057DC22
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)
  • 特許3525964号公報
  • 3次元形状測定方法及びその装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-018483   Applicant：オリンパス株式会社
  • 3次元形状測定装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-101168   Applicant：オリンパス株式会社
Cited by examiner (5)
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