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J-GLOBAL ID：200903008771844061

投影露光装置

Inventor：
太田 和哉

About 太田 和哉


Applicant, Patent owner：
株式会社ニコン

About 株式会社ニコン


Agent (1)： 大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994213669
Publication number (International publication number)：1996078313
Application date： Sep. 07, 1994
Publication date： Mar. 22, 1996
Summary：
【要約】【目的】 マスク上のパターンを投影光学系を介して感光性の基板上に露光する投影露光装置において、投影倍率を短時間に且つ高精度に検出する。【構成】 レチクルステージ5上及びウエハステージ上の所定位置にそれぞれ第1の基準プレート9及び第2の基準プレートを設け、第1の基準プレート9上に形成した第1の基準パターンMM1の左右対の基本マーク60a,60bと、第2の基準プレート上に形成した第2の基準パターンを投影光学系を介してレチクルステージ5上に投影した投影像の左右対の基本マークとを重ね合わせて左右対の観察光学系で観察してそれぞれのX方向のずれを計測し、その計測値から投影倍率の変動を算出する。
Claim (excerpt)：
露光用の照明光のもとで、マスク上に形成された転写用のパターンの所定部分の像を投影光学系を介して感光性の基板上に投影する投影露光装置において、前記マスクを保持して前記マスクを前記投影光学系の光軸に垂直な平面上で第1の方向に移動させるマスクステージと、該マスクステージ上に配置され第1の基準マークが形成された第1の基準部材と、前記基板を保持して前記基板を前記投影光学系の光軸に垂直な平面上で前記第1の方向に対応する第2の方向に移動させる基板ステージと、該基板ステージ上に配置され第2の基準マークが形成された第2の基準部材と、前記第1及び第2の基準マークの一方の基準マークと、該一方の基準マークと異なる他方の基準マークの前記投影光学系を介した像との相対的な位置ずれ量を検出するマーク検出手段と、を有することを特徴とする投影露光装置。
IPC (2)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (8)
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