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J-GLOBAL ID：200903008891250653

ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法

Inventor：
竹下 優

About 竹下 優

, 
渡部 良司

About 渡部 良司


Applicant, Patent owner：
東京応化工業株式会社

About 東京応化工業株式会社


Agent (5)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006145284
Publication number (International publication number)：2007316294
Application date： May. 25, 2006
Publication date： Dec. 06, 2007
Summary：
【課題】有機溶剤への溶解性に優れ、かつリソグラフィー特性も良好なポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分(A)が、第3級アルキル基含有基含有の脂肪族環式基を含むアクリル酸エステル単位(a0)と、第3級アルキルエステル型であって多環式基を有する酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)とを有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含有するポジ型レジスト組成物であって、 前記樹脂成分(A)が、下記一般式(a0)で表される構成単位(a0)と、第3級アルキルエステル型であって多環式基を有する酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)とを有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (3)：
G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/18
FI (3)：
G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/18
F-Term (26)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB52 ,  2H025CC03 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA11Q ,  4J100BA22R ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC53Q ,  4J100CA05 ,  4J100DA38 ,  4J100DA39 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (3)

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