ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：棚井澄雄 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002201310
Publication number (International publication number)：2003241385
Application date： Jul. 10, 2002
Publication date： Aug. 27, 2003
Summary：

【要約】【課題】エッチング時の表面荒れ、ラインエッジラフネスが少なく、解像性に優れ、焦点深度幅が広い、化学増幅型のポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】エステル側鎖部に多環式基含有酸解離性溶解抑制基を有し、かつ(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位を主鎖に有する、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、有機溶剤(C)とを含むポジ型レジスト組成物であって、前記(A)成分が、メタアクリル酸エステルから誘導される構成単位とアクリル酸エステルから誘導される構成単位とを、共に有するポジ型レジスト組成物を製造する。

Claim (excerpt)：

エステル側鎖部に多環式基含有酸解離性溶解抑制基を有し、かつ(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位を主鎖に有する、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、有機溶剤(C)とを含むポジ型レジスト組成物であって、前記(A)成分が、メタアクリル酸エステルから誘導される構成単位とアクリル酸エステルから誘導される構成単位とを、共に有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , H01L 21/30 502 R

F-Term (17)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA09 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CB45 , 2H025CC03 , 2H025FA01 , 2H025FA12

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (13)

化学増幅型ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-238542 Applicant：住友化学工業株式会社
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-137757 Applicant：ジェイエスアール株式会社
ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-105299 Applicant：富士写真フイルム株式会社

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