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J-GLOBAL ID：200903008971191801

基板処理装置

Inventor： 上田 一成 ,  竹熊 貴志 ,  奥村 賢治
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 井上 俊夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999298503
Publication number (International publication number)：2001118782
Application date： Oct. 20, 1999
Publication date： Apr. 27, 2001
Summary：

【要約】【課題】 カセットステーションと処理ステーションを接続し、基板カセットから取り出された基板を処理ステーション内の液処理ユニットにて液処理する基板処理装置、例えばレジストパターンを作る塗布、現像装置において、液処理ユニットを複数段に積み上げる場合、処理液の配管を短くできるレイアウトにすること。【解決手段】 複数段に積み上げられた液処理ユニットを例えばカセットステーションから奥側を見て右(あるいは左)側に一直線に沿って配置し、複数段の液処理ユニットの隣あるいは下方側に、当該液処理装置に用いられる処理液の容器やバルブ等の供給制御機器をケミカルユニットとしてまとめて配置する。

Claim (excerpt)：

基板を収納した基板カセットを載置する載置部と、この載置部に載置された基板カセットに対して基板の受け渡しをする受け渡し手段と、を含むカセットステ-ションと、このカセットステ-ションに接続され、前記受け渡し手段により搬送された基板を処理する処理ステ-ションと、を有し、前記処理ステ-ションは、複数段に積み重ねられると共に各々処理液により基板に対して処理を行う液処理ユニットと、これら液処理ユニットに対して基板の搬出入を行う搬送手段と、前記処理液を収納する容器が収納され、液処理ユニットの隣または最下段の液処理ユニットの下方側に設けられた容器収納部と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/16 501 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/68

FI (4)：

G03F 7/16 501 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 562

F-Term (31)：

2H025AB16 ,  2H025AB20 ,  2H025DA19 ,  2H025EA04 ,  2H025FA15 ,  2H096AA25 ,  2H096AA28 ,  2H096GA21 ,  2H096LA30 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031DA17 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA49 ,  5F031GA50 ,  5F031MA02 ,  5F031MA07 ,  5F031MA24 ,  5F031MA26 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05 ,  5F046CD06 ,  5F046JA03 ,  5F046JA04 ,  5F046JA22 ,  5F046LA01 ,  5F046LA18

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• ケミカルキャビネット
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-002612   Applicant：東京エレクトロン株式会社
• 基板処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-348773   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社