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J-GLOBAL ID：200903009278829068

薄膜トランジスタ液晶表示装置製造用フォトマスク

Inventor：
李 得 秀

About 李 得 秀

, 
田 正 牧

About 田 正 牧


Applicant, Patent owner：
株式会社ハイニックスセミコンダクター

About 株式会社ハイニックスセミコンダクター


Agent (1)： 瀬谷 徹 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001163372
Publication number (International publication number)：2002055364
Application date： May. 30, 2001
Publication date： Feb. 20, 2002
Summary：
【要約】【課題】 ハーフトーン露光時にチャネル領域の終端で屈曲が発生するのを防ぐことができるTFT-LCD製造用フォトマスクを提供する。【解決手段】 透光性基板30と、透光性基板30上に形成された遮蔽パターン40で構成され、遮蔽パターン40はソース及びドレイン形成領域を覆うように隔離して配置されるボックス(Box)タイプの一対の第1遮蔽パターン31と、第1遮蔽パターン31の間に配置され半透過領域を構成するバー(Bar)タイプの一対の第2遮蔽パターン32、及びチャネル部終端で光透過領域(A)と遮蔽領域(B)間の境界が形成されるよう、第1及び第2遮蔽パターン31、32の下部及び上部のそれぞれに配置されるバータイプの第3遮蔽パターン33を含むことを特徴とする。
Claim (excerpt)：
透光性基板と、前記透光性基板上に形成された遮蔽パターンで構成され、前記遮蔽パターンは、ソース、及びドレイン形成領域を覆うように隔離して配置されるボックス(Box)タイプの一対の第1遮蔽パターンと、前記第1遮蔽パターンの間に配置され半透過領域を構成するバー(Bar)タイプの一対の第2遮蔽パターン、及びチャネル部終端で光透過領域と遮蔽領域間の境界が形成されるように、前記第1及び第2遮蔽パターンの下部及び上部のそれぞれに配置されるバータイプの第3遮蔽パターンを含むことを特徴とする薄膜トランジスタ液晶表示装置製造用フォトマスク。
IPC (5)：
G02F 1/1368 ,  G02F 1/1335 500 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/336 ,  H01L 29/786
FI (5)：
G02F 1/1368 ,  G02F 1/1335 500 ,  G03F 1/08 D ,  G03F 1/08 G ,  H01L 29/78 627 C
F-Term (33)：
2H091FA02Y ,  2H091FA35Y ,  2H091GA01 ,  2H091GA13 ,  2H091LA30 ,  2H092JA24 ,  2H092JA34 ,  2H092JA37 ,  2H092JA41 ,  2H092MA13 ,  2H092MA14 ,  2H092MA16 ,  2H092NA21 ,  2H092PA01 ,  2H092PA08 ,  2H092PA09 ,  2H095BA12 ,  2H095BB02 ,  2H095BB32 ,  2H095BB33 ,  2H095BC09 ,  5F110AA06 ,  5F110AA30 ,  5F110BB01 ,  5F110CC07 ,  5F110DD02 ,  5F110EE02 ,  5F110EE43 ,  5F110GG02 ,  5F110GG15 ,  5F110HK09 ,  5F110HK16 ,  5F110QQ02
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
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