Pat
J-GLOBAL ID：200903009852618810
液体マトリックスを用いたMALDI質量分析法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
岡田 正広
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008105162
Publication number (International publication number)：2009257848
Application date： Apr. 14, 2008
Publication date： Nov. 05, 2009
Summary：
【課題】検出すべき分子種に対するイオン化抑制効果を低減するMALDI質量分析法;MS測定の段階において、特定の分子種の選択的なイオン化、又は特定の付加イオン種の選択的な検出が可能なMALDI質量分析法;スループット性に優れ、試料の損失が無い(又は著しく少ない)MALDI質量分析法を提供する。【解決手段】構造解析すべき分子と、イオンXを有する塩とを含む水溶液相、及び、アミノキノリンのイオンと酸性基含有有機物質のイオンとを含むイオン性液体相、からなる二相液滴を形成する工程と、二相液滴から水を除去し、残渣と残相とからなるスポット得る工程と、残渣の部分にレーザー光を照射し、少なくとも構造解析すべき分子にイオンXが付加したイオンを得ること、及び/又は、残相の部分にレーザー光を照射し、構造解析すべき分子のプロトン付加イオンを得る工程と、を含む、液体マトリックスを用いたMALDI質量分析法。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
(i)構造解析すべき分子を含む試料と、構成イオンXを有する塩と、を含む水溶液の相、及び
アミノキノリンのイオンと酸性基含有有機物質のイオンとを含む、マトリックスとしてのイオン性液体の相、
からなる二相液滴を、ターゲットプレート上に形成する二相液滴形成工程と、
(ii)前記二相液滴における前記水溶液の相から水を除去することによって、前記水溶液の相から得られた残渣と、前記イオン性液体の相から得られた残相とからなるスポットを前記ターゲットプレート上に得るスポット形成工程と、
(iii)前記スポットにおける前記残渣の部分にレーザー光を照射し、少なくとも前記構造解析すべき分子に前記イオンXが付加したイオンを得ること、及び/又は
前記スポットにおける前記残相の部分にレーザー光を照射し、前記構造解析すべき分子にプロトンが付加したイオンを得ること、
を含む質量分析工程と、
を含む、液体マトリックスを用いたMALDI質量分析法。
IPC (2)：
FI (3)：
G01N27/64 B
, G01N27/62 V
, G01N27/62 F
2G041CA01
, 2G041DA04
, 2G041EA01
, 2G041FA10
, 2G041FA12
, 2G041GA03
, 2G041GA08
, 2G041GA09
, 2G041GA10
, 2G041JA02
, 2G041JA08
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