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J-GLOBAL ID:200903009967243259

共重合体樹脂とその製造方法、前記共重合体樹脂を含むフォトレジストとその製造方法、および半導体素子

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 荒船 博司 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998240368
Publication number (International publication number):1999171935
Application date: Aug. 26, 1998
Publication date: Jun. 29, 1999
Summary:
【要約】【課題】 TMAH現像液に耐える物性を有するフォトレジストを提供する。【解決手段】 脂肪族環状オレフィン系単量体と、マレイミド系単量体とを共重合して得られた下記一般式(I)の共重合体樹脂と、これを含有するフォトレジストである。【化1】前記式中、R1は炭素数1〜10の1級、2級または3級の脂肪族アルコールを表す。
Claim (excerpt):
脂肪族環状オレフィン系単量体と、マレイミド系単量体とを共重合して得られた下記一般式(I)の共重合体樹脂。【化1】前記式中、R1は炭素数1〜10の1級、2級または3級の脂肪族アルコールを表す。
IPC (6):
C08F222/06 ,  C08F 2/06 ,  C08F232/08 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 601 ,  C07D207/448
FI (6):
C08F222/06 ,  C08F 2/06 ,  C08F232/08 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/039 601 ,  C07D207/448
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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