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J-GLOBAL ID：200903010068563888

有害ガスの浄化方法

Inventor： 大塚 健二 ,  名和 洋二
Applicant, Patent owner： 日本パイオニクス株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998063989
Publication number (International publication number)：1999005018
Application date： Feb. 27, 1998
Publication date： Jan. 12, 1999
Summary：

【要約】【課題】 有害成分として三弗化窒素を含有する有害ガスを、低温で高い浄化能力を有するとともに、有害なガスを副生することなく浄化し得る浄化方法を開発する。【解決手段】 三弗化窒素を含有するガスを、酸化第一錫を主成分とする浄化剤と接触させる。

Claim (excerpt)：

有害成分として三弗化窒素を含有する有害ガスを、酸化第一錫を有効成分とする浄化剤と200°C以上の温度で接触させて浄化することを特徴とする有害ガスの浄化方法。

IPC (4)：

B01D 53/54 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/68 ,  B01J 20/06

FI (4)：

B01D 53/34 128 ,  B01J 20/06 C ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 134 C

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

• 特開平3-202128
  
• 三弗化窒素ガスの除害剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-306342   Applicant：三井東圧化学株式会社
• 三弗化窒素ガスの除害方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-310757   Applicant：三井東圧化学株式会社
• 有害ガスの浄化方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-169104   Applicant：日本パイオニクス株式会社
• 有害ガスの浄化剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-119570   Applicant：日本パイオニクス株式会社