投影または断層撮影による位相コントラスト画像の作成方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：山口巖
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007022877
Publication number (International publication number)：2007203074
Application date： Feb. 01, 2007
Publication date： Aug. 16, 2007
Summary：

【課題】化学的に類似した組成の構造がより強力に細分化されている撮影結果を可能にする。【解決手段】X線システムまたはX線CTシステム(1)により、検査対象を透過するX線(Si)の位相シフト(φ)の測定による位置に関係した画像値を用いて、検査対象(P)の投影または断層撮影による位相コントラスト画像を作成する方法において、位相シフト(φ(E1),φ(E2))が少なくとも2つの異なるエネルギー範囲(E1,E2)に関してエネルギー固有に測定され、画像値がエネルギー固有の位相シフト(φ(E1),φ(E2))の関数として形成される。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

X線システムまたはX線CTシステム(1)により、検査対象を透過するX線(Si)の位相シフト(φ)の測定による位置に関係した画像値を用いて、検査対象(P)の投影または断層撮影による位相コントラスト画像を作成する方法において、位相シフト(φ(E1),φ(E2))が少なくとも2つの異なるエネルギー範囲(E1,E2)に関してエネルギー固有に測定され、画像値がエネルギー固有の位相シフト(φ(E1),φ(E2))の関数として形成されることを特徴とする投影または断層撮影による位相コントラスト画像の作成方法。

IPC (2)：

A61B 6/03 , A61B 6/00

FI (4)：

A61B6/03 310Z , A61B6/00 330Z , A61B6/00 333 , A61B6/03 373

F-Term (8)：

4C093AA14 , 4C093AA22 , 4C093CA02 , 4C093CA21 , 4C093DA06 , 4C093EA06 , 4C093EA07 , 4C093EC16

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

放射線撮像方法及び放射線撮像装置、並びに、放射線撮像プログラム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-285252 Applicant：富士写真フイルム株式会社
高輝度X線源
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-108847 Applicant：住友金属工業株式会社
電子電界放出カソードを使用するX線発生機構
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2002-535152 Applicant：ザユニバーシティオブノースカロライナ-チャペルヒル

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