新規なエステル化合物、高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小島隆司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999174945
Publication number (International publication number)：2000309611
Application date： Jun. 22, 1999
Publication date： Nov. 07, 2000
Summary：

【要約】【解決手段】下記一般式(1)で示されるエステル化合物。【化1】(式中、R1はH、CH3又はCH2CO2R14、R2はH、CH3又はCO2R14、R3はC1〜C8のアルキル基又はC6〜C20の置換されていてもよいアリール基、R4〜R13はH又はC1〜C15のヘテロ原子を含んでもよい1価の炭化水素基を示し、互いに環を形成していてもい。R4〜R13は隣接する炭素に結合するもの同士で何も介さずに結合し、二重結合を形成してもよい。R14はC1〜C15のアルキル基を示す。kは0又は1である。また、本式により、鏡像体も表す。)【効果】本発明のエステル化合物から得られる高分子化合物をベース樹脂としたレジスト材料は、高エネルギー線に感応し、感度、解像性、エッチング耐性に優れているため、電子線や遠紫外線による微細加工に有用であり、特にArFエキシマレーザー、KrFエキシマレーザーの露光波長での吸収が小さいため、微細でしかも基板に対して垂直なパターンを容易に形成することができる。

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で示されるエステル化合物。【化1】(式中、R1は水素原子、メチル基又はCH2CO2R14を示す。R2は水素原子、メチル基又はCO2R14を示す。R3は炭素数1〜8の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基又は炭素数6〜20の置換されていてもよいアリール基を示す。R4〜R13はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1〜15のヘテロ原子を含んでもよい1価の炭化水素基を示し、互いに環を形成していてもよく、その場合には炭素数1〜15のヘテロ原子を含んでもよい2価の炭化水素基を示す。またR4〜R13は隣接する炭素に結合するもの同士で何も介さずに結合し、二重結合を形成してもよい。R14は炭素数1〜15の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。kは0又は1である。また、本式により、鏡像体も表す。)

IPC (7)：

C08F 34/00 , C07C 69/753 , C08F220/00 , C08G 61/08 , C08L 65/00 , G03F 7/027 , C09D167/00

FI (7)：

C08F 34/00 , C07C 69/753 C , C08F220/00 , C08G 61/08 , C08L 65/00 , G03F 7/027 , C09D167/00

F-Term (68)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA09 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025BJ04 , 2H025BJ10 , 2H025CC03 , 2H025CC20 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4H006AA01 , 4H006AB46 , 4H006AB76 , 4H006BJ30 , 4J002BK001 , 4J002EQ016 , 4J002ES016 , 4J002FD206 , 4J002GP03 , 4J032CA33 , 4J032CA45 , 4J032CA62 , 4J032CB01 , 4J032CB04 , 4J032CB12 , 4J032CC03 , 4J032CD01 , 4J032CD09 , 4J032CE03 , 4J032CE22 , 4J032CG06 , 4J038CG012 , 4J038CG032 , 4J038CG142 , 4J038CH152 , 4J038EA011 , 4J038JA60 , 4J038PA17 , 4J100AJ02R , 4J100AK32Q , 4J100AL08R , 4J100AR09P , 4J100AR09R , 4J100AR11P , 4J100AR11R , 4J100BA03R , 4J100BA15R , 4J100BA16R , 4J100BA20R , 4J100BC07R , 4J100BC08R , 4J100BC43R , 4J100BC53R , 4J100BC55R , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100DA01 , 4J100FA17 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

特開平1-132625
特開平1-197460
ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-258836 Applicant：富士写真フイルム株式会社

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