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J-GLOBAL ID：200903011938017147

水素分離装置

Inventor： 田中 裕之 ,  島森 融 ,  志垣 秀和 ,  安田 勇 ,  白崎 義則 ,  常木 達也
Applicant, Patent owner： 日本特殊陶業株式会社 ,  東京瓦斯株式会社
Agent (1)： 福村 直樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005138195
Publication number (International publication number)：2006314876
Application date： May. 11, 2005
Publication date： Nov. 24, 2006
Summary：

【課題】 高純度の水素ガスを分離可能な水素分離装置を提供すること。【解決手段】 多孔質支持体10と、前記多孔質支持体10に支持される水素透過膜20とを備えた水素分離装置1であって、前記水素透過膜20は、その膜厚が1〜30μmであり、その表面の欠陥が0.010個/cm2以下である水素分離装置1。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

多孔質支持体と、前記多孔質支持体に支持される水素透過膜とを備えた水素分離装置であって、前記水素透過膜は、その膜厚が1〜30μmであり、その表面の欠陥が0.010個/cm2以下である水素分離装置。

IPC (2)：

B01D 53/22 ,  B01D 69/10

FI (2)：

B01D53/22 ,  B01D69/10

F-Term (27)：

4D006GA41 ,  4D006HA22 ,  4D006HA93 ,  4D006JA02B ,  4D006JA03A ,  4D006JA03B ,  4D006JA03C ,  4D006MA02 ,  4D006MA09 ,  4D006MA10 ,  4D006MA22 ,  4D006MA31 ,  4D006MB04 ,  4D006MB20 ,  4D006MC02X ,  4D006NA31 ,  4D006NA50 ,  4D006PA01 ,  4D006PA02 ,  4D006PA05 ,  4D006PB18 ,  4D006PB66 ,  4G140FA02 ,  4G140FB09 ,  4G140FC01 ,  4G140FC07 ,  4G140FE01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 特許第3213430号
  
• ガス分離体の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-393850   Applicant：日本碍子株式会社
• 水素製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-313978   Applicant：東京瓦斯株式会社

Cited by examiner (5)

• 水素選択透過膜支持用基材および水素選択透過部材
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-021413   Applicant：株式会社神戸製鋼所
• 水素分離膜の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-180165   Applicant：松下電器産業株式会社
• ガス分離体の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-393850   Applicant：日本碍子株式会社
• ガス分離体及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-073449   Applicant：日本碍子株式会社
• 分離膜モジュール及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-022384   Applicant：京セラ株式会社