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J-GLOBAL ID：200903012021687301

誘導結合型プラズマ発生システム用の複数コイル・アンテナ

Inventor：
チェン, ジアン, ジェイ.

About チェン, ジアン, ジェイ.

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ヴィルトロップ, ロバート, ジー.

About ヴィルトロップ, ロバート, ジー.

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ウィッカー, トーマス, イー.

About ウィッカー, トーマス, イー.


Applicant, Patent owner：
ラム リサーチ コーポレーション

About ラム リサーチ コーポレーション


Agent (1)： 大塚 康徳 (外2名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000557486
Publication number (International publication number)：2002519861
Application date： Jun. 18, 1999
Publication date： Jul. 02, 2002
Summary：
【要約】高周波プラズマ複巻コイル・アンテナは、プラズマ反応器内で制御可能な均一な誘導結合を可能にする。一例としての実施形態によれば、複数のコイルがプラズマ・チャンバの誘電体ウィンドウ上に配置され、単一の高周波発生器によって電力供給され、単一の整合回路網によって調整される。各コイルは平面的なコイルか、または平面的なコイルと垂直方向に積み重なったらせん状のコイルの組合せのいずれかである。各コイルの入力端部は入力側調整コンデンサに接続され、出力端部は出力側調整コンデンサを介して接地に終端される。プラズマへの高周波の最大誘電結合の場所は、主として出力側コンデンサによって決定され、入力側コンデンサは、主として各コイルへの電流の大きさを調整するために使用される。各コイル内の電流の大きさおよび最大誘導結合の場所を調整することによって、異なる半径方向方位角領域内のプラズマ密度を変化させ制御することができ、したがって半径方向に方位角的に均一なプラズマを得ることができる。
Claim (excerpt)：
誘導結合型プラズマを発生させるための装置であって、 チャンバ中に電磁界経路を形成するウィンドウと該チャンバ中にプロセス・ガスを導入するように構成されたプロセス・ガス供給源とを有するプラズマ反応チャンバと、 前記チャンバのウィンドウに近接して配設された少なくとも第1および第2のアンテナ・セグメントを含む高周波アンテナと、 前記アンテナ・セグメントに結合され、前記アンテナ・セグメント中の高周波電流を共振させるように構成された高周波発生源と、を備え、 前記高周波電流によって誘導された電磁界は、前記ウィンドウを通過し、プロセス・ガスを励起してイオン化し、それによりチャンバ内にプラズマを発生させ、かつ、 前記第1のアンテナ・セグメントが、前記第2のアンテナ・セグメントを取り囲んでいることを特徴とする装置。
IPC (4)：
H01L 21/3065 ,  H01J 37/32 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46
FI (4)：
H01J 37/32 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46 L ,  H01L 21/302 B
F-Term (11)：
5F004AA01 ,  5F004BA20 ,  5F004BB11 ,  5F004BB32 ,  5F045AA08 ,  5F045EF05 ,  5F045EH02 ,  5F045EH04 ,  5F045EH11 ,  5F045EH19 ,  5F045EM05
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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