ほぼ均一なプラズマ束を誘導するための誘導結合源

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：吉田精孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997152711
Publication number (International publication number)：1998125497
Application date： Jun. 10, 1997
Publication date： May. 15, 1998
Summary：

【要約】【課題】コイル内の分散高周波電流及び電圧が結合されて、ほぼ均一な空間プラズマ束を被処理加工物上に発生させる電磁界を発生できるようにしたプラズマ加工機を提供する。【解決手段】室(10)内で加工物被処理表面のための高周波真空プラズマ加工機のプラズマを励磁するコイル(24)は、半径方向に延在する複数の円弧形巻線を備えている。密度が室(10)及びコイル(24)の中心部分よりもコイル及び室の周辺部分で相当に高い磁束を室内に発生し、それによってほぼ均一なプラズマ束が加工物(32)の被処理表面に入射されるように、コイル(24)、室(10)及び加工物(32)が配置されている。

Claim (excerpt)：

加工物(32)用のホルダ(30)を備えて、イオン化できるガスの供給源に応答するように配置された真空プラズマ処理室(10)と、ガスと反応結合してガスを励起することによって、ホルダ上の加工物を処理できるプラズマ状態にするコイル(24)とを有しており、コイルは複数の巻線(40〜48)を備えて、コイルの高周波付勢に応答してガスを励起してプラズマ状態にし、コイルには内側(40〜44)及び外側(46〜48)の円弧形セグメントと、高周波励磁源(26、28)に接続される第1及び第2励磁端子(52、54)とが設けられており、第1端子はコイルの一端部及び内側円弧形セグメントの一端部に位置し、外側円弧形セグメント(46、48)は内側円弧形セグメント(40〜44)から半径方向にずれた位置にあって、第2端子は内側円弧形セグメントとは違う円弧形セグメントの1つにあり、密度が室及びコイルの中心部分よりもコイル及び室の周辺部分で相当に高い磁束を室内に発生し、それによってほぼ均一なプラズマ束が加工物の被処理表面に入射されるように、コイル、室及び加工物が配置されている、真空室(10)内の加工物(32)を処理する真空プラズマ加工機であって、コイルの端子の一方は、リアクタンス(80)によって高周波励磁源に接続されており、xが、電源に接続されたコイルの入力端子から測定した直線距離、βが、高周波電源(26)の周波数で決定される定数、xoが、高周波励磁源の周波数におけるリアクタンスのインピーダンスで決定されるゼロからのオフセット、Vopkpk及びIopkpkが、それぞれコイル内の最大高周波波高値電圧及び電流の値である時、コイル内の波高値高周波電圧Vpkpk(x)及び電流Ipkpk(x)が次式:Vpkpk(x)=Vopkpkcos[β(x+xo)]Ipkpk(x)=Iopkpksin[β(x+xo)]で概算されるようなリアクタンスの値、コイルの長さ及び周波数を有する高周波電源であることを特徴とする真空プラズマ加工機。

IPC (6)：

H05H 1/46 , C23F 4/00 , H01L 21/203 , H01L 21/205 , H01L 21/3065 , C23C 16/50

FI (6)：

H05H 1/46 L , C23F 4/00 A , H01L 21/203 S , H01L 21/205 , C23C 16/50 , H01L 21/302 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

特開平3-079025
特表平7-508125
プラズマ装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-013981 Applicant：東京エレクトロン株式会社

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