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J-GLOBAL ID：200903012140351850

粒子状フォトレジスト用高分子化合物とその製造法

Inventor：
三好 一隆

About 三好 一隆

, 
新井 隆

About 新井 隆


Applicant, Patent owner：
ダイセル化学工業株式会社

About ダイセル化学工業株式会社


Agent (1)： 後藤 幸久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001209601
Publication number (International publication number)：2003020312
Application date： Jul. 10, 2001
Publication date： Jan. 24, 2003
Summary：
【要約】【課題】 フォトレジスト用樹脂組成物の樹脂成分として用いた場合、レジスト性能に悪影響を及ぼさないような粒子状高分子化合物を得る。【解決手段】 本発明の粒子状フォトレジスト用高分子化合物は、酸の作用によりアルカリ可溶性となるフォトレジスト用高分子化合物であって、体積平均粒子径が20〜300μmの範囲にあり、且つ粒子径10〜500μmの粒子が全粒子の90体積%以上を占める。このような粒子状フォトレジスト用高分子化合物は、酸の作用によりアルカリ可溶性となるフォトレジスト用高分子化合物の溶液を、口径6mmφ以下のノズルから貧溶媒中に供給して沈殿又は再沈殿させることにより製造できる。
Claim (excerpt)：
酸の作用によりアルカリ可溶性となるフォトレジスト用高分子化合物であって、体積平均粒子径が20〜300μmの範囲にあり、且つ粒子径10〜500μmの粒子が全粒子の90体積%以上を占める粒子状フォトレジスト用高分子化合物。
IPC (2)：
C08F 20/28 ,  G03F 7/039 601
FI (2)：
C08F 20/28 ,  G03F 7/039 601
F-Term (28)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB54 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100BA02P ,  4J100BA11P ,  4J100BA16P ,  4J100BA20P ,  4J100BC09P ,  4J100BC53P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100EA09 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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