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J-GLOBAL ID:200903012146974078
マイクロレンズアレイの製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
後藤 洋介 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993321764
Publication number (International publication number):1995174903
Application date: Dec. 21, 1993
Publication date: Jul. 14, 1995
Summary:
【要約】【目的】 高い開口数(NA)を有し、かつ耐熱、耐光性、機械的強度、耐薬品性に非常に優れたマイクロレンズアレイを製造する。【構成】 ガラス基板1上に樹脂層5を形成後、この樹脂層5を加熱溶融することにより、半球形状を有する凸状の樹脂パターン7を得る。この際、樹脂層5を下向き(重力と同じ方向)にすれば、曲率の大きな凸状の樹脂パターン7が得られる。次に、ガラス基板1上に形成した凸状の樹脂パターン7をマスクとして、ドライエッチングによりガラス基板1上に凸状の樹脂パターンを転写することにより、マイクロレンズアレイ9を製造する。樹脂パターン7をガラス基板1に転写する際、高い開口数(NA)を有するマイクロレンズアレイを形成させるためには、ガラス基板1のエッチング速度を樹脂パターン7のエッチング速度よりも速くすれば良い。
Claim (excerpt):
ガラス基板上に凸状の樹脂パターンを形成する工程と、該凸状の樹脂パターンと前記ガラス基板の一部とをエッチングにより除去する工程とを含むことを特徴とするマイクロレンズアレイの製造方法。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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マイクロレンズおよびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-197959
Applicant:大日本印刷株式会社
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特開平4-359472
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固体撮像装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-108750
Applicant:ソニー株式会社
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光学デバイス及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-161407
Applicant:三井石油化学工業株式会社
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マイクロレンズアレイの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-337166
Applicant:富士通株式会社
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マイクロレンズ形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-118685
Applicant:松下電器産業株式会社
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