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J-GLOBAL ID:200903012299939611

均一な孔大きさを有する大細孔径メソポーラス金属の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 西澤 利夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2008137184
Publication number (International publication number):2009280892
Application date: May. 26, 2008
Publication date: Dec. 03, 2009
Summary:
【課題】孔径大きさが4nmを越えてもっと大きく、しかも均一な孔大きさを有する大細孔径メソポーラス金属を製造する方法を提供する。【解決手段】本発明の方法は、次の工程を含む。(1)大きさ(粒径)が5nm〜50nmの範囲内で、しかも均一な周期性を有するリオトロピック液晶を形成できる界面活性剤と、水溶性金属塩と、揮発性有機溶媒と、水とを、混合する(前駆体溶液の調製);(2)前記前駆体溶液から揮発性有機溶媒を優先的に揮散させて、大きさ(粒径)が5nm〜50nmの範囲内で、しかも均一な大きさのリオトロピック液晶を形成させる;(3)液晶中に溶存する金属イオンを還元することで、前記リオトロピック液晶の周囲に金属を析出させる;(4)更に水性溶媒で処理してリオトロピック液晶を洗い去り、空隙を形成させる。【選択図】図2
Claim (excerpt):
次の工程を含むことを特徴とする、均一な孔大きさを有する大細孔径メソポーラス金属の製造方法。 (1)大きさ(粒径)が5nm〜50nmの範囲内で、しかも均一な大きさのリオトロピック液晶を形成できる界面活性剤と、水溶性金属塩と、揮発性有機溶媒と、水とを、混合する(前駆体溶液の調製); (2)前記前駆体溶液から揮発性有機溶媒を優先的に揮散させて、大きさ(粒径)が5nm〜50nmの範囲内で、しかも均一な大きさのリオトロピック液晶を形成させる; (3)これを還元処理して、前記リオトロピック液晶の周囲に金属を析出させる; (4)更に水性溶媒で処理してリオトロピック液晶を洗い去り、空隙を形成させる。
IPC (4):
C25D 1/08 ,  C23C 18/34 ,  B82B 3/00 ,  B82B 1/00
FI (4):
C25D1/08 ,  C23C18/34 ,  B82B3/00 ,  B82B1/00
F-Term (17):
4K022AA13 ,  4K022AA35 ,  4K022AA41 ,  4K022AA43 ,  4K022BA01 ,  4K022BA03 ,  4K022BA06 ,  4K022BA08 ,  4K022BA14 ,  4K022BA18 ,  4K022BA38 ,  4K022DA01 ,  4K022DB01 ,  4K022DB03 ,  4K022DB05 ,  4K022DB08 ,  4K022EA04
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2) Cited by examiner (4)
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